판매용 중고 SEMITOOL PSC-102 #293820424

SEMITOOL PSC-102 포토레시스트 (photoresist) 장비는 다양한 웨이퍼 응용 프로그램에 대한 정확한 결함이 없는 포토레시스트 코팅 및 개발을 제공하도록 설계된 고성능 처리 시스템입니다. 이 장치에는 고급 터치 스크린 컨트롤 (touch screen control) 이 장착되어 있어 기계를 쉽게 작동하고 프로그래밍할 수 있습니다. 정확한 온도, 습도 제어, 정확한 스핀 속도, 타이머 제어, 딥 코팅 기능 등을 사용자에게 제공할 수 있습니다. 또한, 이 도구에는 강력한 프로세스 모니터링 자산 (예: 두께) 과 같은 다른 중요한 저항 매개변수 (critical resist parameters) 및 저항 필름 균일성을 확인할 수있는 강력한 프로세스 모니터링 에셋이 장착되어 있습니다. SEMITOOL PSC 102 모델에는 웨이퍼 표면 청소 및 포토 esist 제거에 사용되는 RSM (Resist Stripper Module) 도 장착되어 있습니다. RSM은 초음파 청소실, 기판 프로세서 및 드라이 팬 테이블로 구성됩니다. 초음파 챔버 (Ultrasonic Chamber) 는 기질의 제거를 보장하고 웨이퍼 (Wafers) 에서 포토 esist를 코팅하기 전에 적절한 표면 청결을 보장하기 위해 사용됩니다. 기판 프로세서는 기판 및 웨이퍼 클리닝, 저항 스트리핑 및 웨이퍼 건조를 제공합니다. 마지막으로, 드라이 팬 테이블 (dry fan table) 은 남은 저항을 빠르게 해제하고 제품 폐기물과 오염을 피하는 데 도움이됩니다. 이 장비에는 파우더 배달 호퍼, 에어 샤워, 모듈 식 고속 스핀 스테이션, 자동 처리 시스템 등 여러 가지 옵션 구성 요소가 제공됩니다. 파우더 배달 호퍼는 자기 저항성 및 기존 포토 esist를 저장하고 분배하는 데 사용됩니다. 공기 샤워 장치 (air shower) 는 웨이퍼가 우수한 포토 esist 코팅, 개발 및 에지 무결성을 촉진하기위한 주변 및 장벽 환경을 제공하는 데 사용됩니다. 모듈식 고속 스핀 스테이션 (High Speed Spin Station) 은 웨이퍼에 대한 로우 프로파일 (Low Profile) 을 허용하여 스핀 프로세스의 높은 신뢰성과 정확성을 보장함으로써 추가 유연성을 제공합니다. 자동화된 처리 시스템은 기존 및 현대 고급 포토 esist (photoresist) 를 포함한 다양한 유형의 photoresist를 처리하도록 맞춤형 제작되었습니다. 각 Automated System은 안정적이고 안전한 운영을 보장하기 위해 최대한의 관리로 설계되었습니다. 간단히 말해, PSC-102 포토레시스트 (photoresist) 장치는 사용자에게 정확한 제어 및 안정적인 성능을 제공하는 고성능 처리 솔루션입니다. 다양한 기능과 옵션으로, 다양한 옵션과 유연성을 제공하여 고객의 요구 사항과 요구 사항을 충족할 수 있습니다.