판매용 중고 SEMITOOL PSC-101 #9184611

SEMITOOL PSC-101은 반도체 및 광전자 산업에서 사용하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 다중 채널, 모듈러 포토 esist 박막 증착 장치로 높은 정밀도를 제공합니다. 자동화된 프로그래밍 가능한 패턴 파일 생성, 온도 조절 프로세스 챔버, 고해상도 이미징 기능, 뛰어난 포토레스 필름 (photoresist film) 형성 등 정확성과 정밀도를 보장하도록 설계된 여러 기능을 자랑합니다. SEMITOOL PSC 101은 정밀 포토 리토 그래피 기술을 사용하여 포토 esist 필름 형성을 가능하게합니다. 이것은 포함 된 제어 소프트웨어에 의해 생성 및 제어 된 마스크 패턴에 따라 포토 esist 물질을 노출시키는 레이저 기반 또는 자외선 (UV) 광원으로 구성된다. PSC-101에는 균일하고, 정확하고, 반복 가능한 포토 esist 증착을 제공하는 다중 채널 자체 포함 머신이 있습니다. 이것 은 "포토레지스트 '층 을 전체" 기판' 영역 내 에서 혹은 전체 에 걸쳐 과도 한 변화 를 하지 않고도 정밀 한 기판 표면 으로 조작 할 수 있게 한다. PSC 101의 자동 프로그래밍 가능한 패턴 파일 생성은 여러 가지 이점을 제공합니다. 또한 언제든지 패턴 파일을 수동으로 프로그래밍할 필요 없이 패턴 파일 (pattern file) 을 빠르게 수정할 수 있는 유연성이 추가됩니다. 이 툴에는 파일 생성 및 편집 패턴 (pattern file generation and editing) 을 간소화하여 시간과 노력을 더욱 최소화하는 강력한 사용자 친화적 제어 소프트웨어가 포함되어 있습니다. SEMITOOL PSC-101의 중심에는 온도 조절 공정 챔버가 있습니다. 이것은 온도가 한 번의 실행에서 다음 (next run) 까지 정확하게 유지되도록 보장하며, 이는 일관되고 신뢰할 수있는 photoresist 필름 형성을 유지하는 데 도움이됩니다. 또한 해상도가 높은 이미징 (imaging) 기능을 통해 단일 마스크 내에서 패턴을 일관되게 유지할 수 있습니다. SEMITOOL PSC 101은 여전히 정확성과 정밀도를 유지하면서 빠른 발병 시간, 향상된 필름 접착과 같은 뛰어난 포토 esist 필름 형성 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 그 결과, 보다 견고 한 광전자 층 (photoresist layer) 이 생기게 되는데, 이 층 은 여러 가지 장치 와 광전자 (optoelectronic) 응용 에 사용 될 수 있다. 요약하자면, PSC-101 photoresist 자산은 자동 프로그래밍 가능한 패턴 파일 생성, 온도 조절 프로세스 챔버 및 훌륭한 photoresist 필름 형성 기능을 갖춘 정밀 사진 리토 그래피 모델입니다. 반도체 및 광전자 애플리케이션에 필요한 정확성과 정밀도를 제공합니다.