판매용 중고 SEMITOOL PSC-101 #137503

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SEMITOOL PSC-101
판매
ID: 137503
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2006
Spin rinse dryer, 6", 2006 vintage.
SEMITOOL PSC-101 Photoresist Equipment는 복잡한 마이크로 일렉트로닉스 제작 프로세스를 위해 강력하고 신뢰할 수있는 자동 처리 시스템입니다. 높은 유연성과 비용 효율성을 제공하여 고급 전자 부품 (Electronic Component and Device) 을 만들 수 있습니다. SEMITOOL PSC 101에는 이중 챔버 유닛이 있으며, 저항 개발, 코팅, 회전 및 베이킹과 같은 프로세스와 작동하도록 설계되었습니다. 가열 된 베이크 플레이트는 최대 200 ° C, 균일 한 속도 5 ° C/min을 제공하는 반면, 프로그래밍 가능한 타이머는 최대 180 초의 시간 범위를 제공합니다. 이 기계는 또한 분리 가능한 세척 바스켓, 과잉 혼합 방지 센서, 저용량 세제 전달 도구, 드레인 탱크 (Drain Tank) 를 통해 손쉬운 청소 및 유지 보수가 가능합니다. PSC-101은 직관적인 터치 스크린 인터페이스를 사용하여 그래픽 기반 프로그래밍을 단순하고 간단하게 만듭니다. 이 기능을 사용하면 코팅 매개변수를 빠르게 설정하고 원하는 레이어 두께 프로파일 (layer thickness profile) 을 설정할 수 있습니다. 또한 반복 방법을 위해 미리 프로그래밍 된 처리 레시피를 기록하고 저장하는 데 사용할 수 있습니다. PSC 101은 중고속 스핀 (Spin) 프로세스를 포함하여 각 챔버에 대해 2 개의 독립적 인 소스를 사용하여 빠르고 효율적인 포토 esist 코팅 및 개발을 지원합니다. 전면 덮개를 쉽게 액세스할 수 있으므로 웨이퍼를 변경할 수 있습니다. SEMITOOL PSC-101은 또한 마스크 정렬 및 리소그래피 정확성을 위해 특별히 설계된 고급 기능을 제공합니다. 특허를 획득한 MaskMaster 광 정렬 에셋은 서브미크론 (sub-micron), 온다이 (on-the-fly) 정렬을 통해 더 빠르고 정확하게 웨이퍼를 정렬할 수 있습니다. 왼쪽 및 오른쪽 인쇄 헤드 (print head) 는 빠른 정렬 시간과 향상된 재현성을 제공하는 반면, 이중 에멀션 스핀 (emulsion spin) 모델은 하나의 웨이퍼에서 동시에 스핀할 수 있습니다. 요약하면, SEMITOOL PSC 101 (PSC 101, SEMITOOL PSC 101) 은 까다로운 산업 애플리케이션의 요구 사항을 충족할 수 있는 다양한 기능과 기능을 제공하는, 안정적이고 비용 효율적인 고급 장비입니다. 포토리스 코팅 (photoresist coating), 개발 (development) 과 같은 프로세스의 성공적인 실행에 필요한 시간을 줄이고 생산성을 높이도록 설계된 강력한 자동화 시스템입니다.
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