판매용 중고 SEMITOOL Paragon LT-210 #9115016

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ID: 9115016
Electrochemical deposition platform, 4" Model no: P210-F2-P2-T1-8-EE-5-2 (3) Copper ECDs Nickel ECD (2) Gold ECDs Pre-Treat CPC SRD Pre-aligner (3) CFD2 ECD Chambers for Cu plating CFD2 ECD Chamber for Ni Plating CFD2 ECD Chamber for Cyanide Au plating with ring contact (Split chemical cabinet) SAT Spray chamber for prewet-process CFD2 ECD Chamber for Cyanide Au plating with J-Hook contact (Split chemical cabinet) Fire suppression system 4BAY-CDU DYNATRONIX Power supply Flowmeters CE Certification / 400V Facilities Cabinet material FRPP Light tower Manual 2002 vintage.
SEMITOOL Paragon LT-210은 대용량 웨이퍼 처리를 위해 설계된 최고급 포토리스 처리 장비입니다. 이 시스템은 스핀 코팅 (spin coating) 에서 제거 저항에 이르기까지 모든 웨이퍼 (wafer) 프로세스에 대한 뛰어난 균일성과 제어를 제공하도록 설계되었습니다. Paragon LT-210 장치에는 모든 프로세스 영역에 별도의 가스 제어를 제공하는 멀티 존 (multi-zone) 가스 전달 머신이 포함되어 있어 온도, 압력 및 가스 흐름을 빠르고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 통합 UV LED 조명 도구를 사용하면 공정 챔버 전체에 UV 조명을 균일하게 분포시켜 광석판 촬영 (photolithography) 과 같은 프로세스의 통일성 및 반복 성을 극대화할 수 있습니다. 이 자산은 또한 통합 치과 로봇을 갖춘 고급 6 축 로봇 암 (robotic arm) 을 갖추고 있으며, 중요한 프로세스 단계를 정확하게 실행합니다. 치과 "로봇 '은 석판화" 마스크' 와 저항 의 정확 하고 정확 한 정렬 을 가능 케 하는 혁신적 인 특징 이다. 또한, 로봇 암은 중요한 프로세스 단계의 정확하고 반복 가능한 실행을 보장합니다. SEMITOOL Paragon LT-210 (Semitool Paragon LT-210) 은 장비의 최대 가동 시간과 신뢰성을 결합하는 매우 안정적인 정밀 웨이퍼 전송 모델을 기반으로 제작되었습니다. 이 시스템은 또한 SEMITOOL 특허를받은 ShuttleFlo 터보 진공 펌핑 장치를 갖추고 있으며, 이는 빠른 웨이퍼 턴오버를 위해 프로세스 챔버에서 증기를 신속하게 대피시킵니다. 또한 Paragon LT-210 머신에는 프로세스 매개 변수의 안전하고 효율적인 로깅 및 웨이퍼 프로세스 결과에 대한 자세한 분석이 가능한 통합 데이터 로깅/분석 툴이 포함되어 있습니다. 이를 통해 웨이퍼 서피스 저항성 (Wafer Surface Resistivity) 및 기타 중요한 프로세스 매개변수를 정확하게 제어할 수 있으며, 우수한 웨이퍼 수율 및 향상된 프로세스 제어를 제공합니다. 전반적으로 SEMITOOL Paragon LT-210은 대용량 웨이퍼 프로세스 어플리케이션을 위해 최고의 제어, 안정성 및 프로세스 정밀도를 위해 설계된 잘 둥근 포토리스 처리 자산입니다. 이 모델은 상세한 프로세스 분석을 위해 통합 분석 패키지 (Integrated Analysis Package) 를 갖춘 신뢰성이 높은 하드웨어 구성 요소를 기반으로 제작되었습니다. 이 장비는 최고 수준의 수익률과 반복 (repeatability) 에 최적화되어 업계의 웨이퍼 처리 (wafer processing) 요구에 적합한 제품입니다.
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