판매용 중고 SEMITOOL Equinox #9279351

SEMITOOL Equinox 장비는 PCB (Printed Circuit Board) 제조에서 대용량 기판의 코팅 및 패턴화에 사용되는 완전 자동화 된 비용 효율적인 Photoresist 스트립 시스템입니다. 이 장치는 200mm ~ 1000mm 크기의 기판을 수용 할 수 있습니다. Equinox 기능에는 이중 플랫폼 처리, 마스크와 기판 사이의 균일 한 간격, 가변 간격 설정, 실시간 이미지 디스플레이가 포함됩니다. SEMITOOL Equinox (Semitool Equinox) 는 또한 저항성 두께를 정확하게 제어하고 다양한 오염 물질이없는 코팅을 제공 할 수 있습니다. Equinox 스트립 머신은 전통적인 수동 스핀 코팅 (manual spin coating) 또는 디핑/스프레이 (dipping/spraying) 기술에 비해 다양한 장점으로 수동 개입 감소, 스트립 시간 향상 및 광석기 처리를 최적화하도록 설계되었습니다. SEMITOOL Equinox (SEMITOOL Equinox) 는 다중 플랫폼 설계를 사용하여 기판 전체에 걸친 저항층의 두께를 균일하게 유지합니다. 이 도구는 단일 기판 로딩을위한 단일 플랫폼 (single platform) 또는 다중 기판 로딩을위한 이중 플랫폼 (dual platform arrangement) 을 수용 할 수 있습니다. 이중 (Dual) 플랫폼은 수직 (Vertical) 패턴으로 배열되며, 한 플랫폼은 다른 플랫폼 위에 위치하여 여러 기판의 동시 로드 및 처리를 허용합니다. 또한, Equinox 에셋에는 고해상도 이미징 (high-resolution imaging) 모델이 장착되어 있어 기판의 간격이 균등하고 마스크 및 기판 정렬이 최적의 거리 내에 있습니다. "마스크 '와 기판 사이 의 간격 을 공압" 실린더' 로 조정 하여 "레지스트 '층 의 최상 의 균일성 을 달성 할 수 있다. 또한 SEMITOOL Equinox 장비는 일관된 성능과 뛰어난 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 일반 파장에서 근적외선 (near-infrared light) 을 방출하는 호 램프 (arc lamp) 를 사용하여 매우 정확한 패턴화 과정을 허용합니다. [마스크] 및 [기판 간격] 설정을 정확하게 제어하면 노출 시간이 빨라지고 스트립 시간이 단축되어 보다 효율적인 생산 과정이 이루어집니다. 또한 Equinox 는 실시간 이미지 디스플레이 (real-time image display) 를 통합하여 수동 작업 없이 리소그래피 프로세스의 진행 상황을 모니터링할 수 있습니다. SEMITOOL Equinox (SEMITOOL Equinox) 는 효과적이고 신뢰할 수 있는 photoresist 스트립 유닛으로 수동 입력을 최소화하면서 일관된 성능을 제공합니다. 멀티 플랫폼 및 공압 실린더 설계는 정확하고 균일 한 저항 두께를 허용하는 반면, 실시간 이미징 머신과 신속한 노출 시간 (exposure time) 은 프로세스를 최적화하는 데 도움이됩니다. 이 툴은 PCB 업계를 위한 대용량 기판의 비용 효율적인 고품질 생산을 제공합니다.