판매용 중고 SEMITOOL Equinox #9227332

ID: 9227332
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2005
Plating system, 6" (4) Plating chambers (2) Preclean / SRD Chambers GENMARK Radial robot Tank ultrasonic level sensor ARU Interface Levitronix pumps Surpass flow meters PALL Filter housings, 10" (Plating cells) PALL Filter, 4" (Prewet tank) Sample port Fire suppression system Chemical bulk fill DYNATRONIX Pro series plating power supply (4-Cells) Tank heat exchange connection Power requirements: 208 VAC, 80 A, 50/60 Hz 2005 vintage.
세미툴 에퀴녹스 (SEMITOOL Equinox) 는 선도적 인 반도체 장비 제조업체에서 개발 한 포토레시스트 (photoresist) 장비로, 광미주의 물질을 매우 정확하고 정확하게 제작하도록 설계되었습니다. 이 기계는 레이저 보조 에칭 기술을 사용하여 지형을 추가하거나 변경합니다. 이 photoresist 기술은 "직접 쓰기 (Direct Write)" 라고도합니다. 이 기계가 복잡한 모양의 세부 레이어를 만들 수있는 능력 때문입니다. Equinox 시스템은 고해상도 레이저 소스 (laser source) 를 특징으로하며, 포토 esist 재료의 표면에 작은 레이저 마이크로 패턴을 생산하는 데 사용됩니다. 이 레이저는 모든 상세 구조 (Detailed Structure) 를 정확하게 배치하기 위해 측정할 때마다 자가 정렬 (Self-Aligned) 기능을 갖습니다. 이 장치를 사용하면 직사각형 실리콘 웨이퍼 (rectangular silicon wafer) 에서 모양 기판까지 다양한 모양과 크기의 웨이퍼 (wafer) 에 photoresist 레이어를 정확하게 패턴화할 수 있습니다. SEMITOOL Equinox 포토 esist 유닛에는 강력한 이미징 및 분석 소프트웨어가 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어를 사용하면 에칭 (etching) 프로세스를 온라인으로 모니터링할 수 있으므로 레이저 및 기타 매개변수의 위치를 조정하여 품질 에칭 (etching) 을 높일 수 있습니다. 또한 강력한 이미징 모듈을 사용하면 에칭 된 결과를 실시간으로 시각화할 수 있습니다. 에퀴녹스 포토레지스트 (Equinox photoresist) 머신은 생산 환경에서 사용되도록 설계되었으므로, 정확하고 신뢰할 수 있는 방식으로 작동할 수 있습니다. 일괄 처리 (batch process) 또는 단일 프로세스 구성으로 기판을 처리할 수 있으며 매우 까다로운 환경에서도 작동할 수 있습니다. 또한, 이 도구에는 제조 중 오류를 감지하는 스마트 센서가 있습니다. 마지막으로 SEMITOOL Equinox 포토레지스트 자산은 안전하고 비용 효율적입니다. 이것은 최신 안전 기술 (Safety Technologies) 과 광물질 가공을위한 가장 경제적인 접근 방식을 통해 달성됩니다. 자동화되고 효율적인 프로세스는 업계 최고의 일관성을 보장합니다. 이 모델은 또한 다양한 기판에 사용하기에 적합하며, 가장 적합한 가격 대비 성능 비율 (cost-to-performance ratio) 을 제공합니다.
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