판매용 중고 SEMITOOL Equinox #9207969

SEMITOOL Equinox는 반도체 웨이퍼 처리를 위해 설계된 고정밀 포토리스 처리 장비입니다. 이 제품은 고성능 마이크로 일렉트로닉스 (Microelectronics) 장치를 위해 서브 미크론 스케일 회로 설계 (Sub-micron scale Circuit Design) 의 생산을 가능하게하기 위해 웨이퍼에 포토 esist를 안정적이고 정확하게 증착하도록 설계되었습니다. Equinox 시스템은 고정밀도 및 반복 가능한 포토 esist 코팅을 위해 설계되었습니다. 특허를받은 사전 처리 기술을 사용하여 포토 esist 증착의 우수한 접착과 균일성을 보장합니다. 이 장치에는 photoresist 표면을 준비하는 건조한 화학 분무기, photoresist를 증착시키는 스핀 코터 (spin-coater) 및 photoresist 층을 웨이퍼에 올바르게 고정시키는 데 도움이되는 특수 저온 포스트-포어 베이크가 포함됩니다. 또한 SEMITOOL Equinox 머신에는 다양한 두께를 가진 여러 photoresist 레이어를 배치 할 때 정확한 결과를 제공하는 자동 endpoint 감지 기능이 있습니다. 산소-질소, 질소, 무성 아르곤 및 고압 건조 배기를 포함한 여러 온도 제어 모드가 있습니다. 이를 통해 코팅 공정을 보다 정확하게 제어 할 수 있습니다. 코팅 공정은 다양한 두께로 고품질 포토레지스트 (photoresist) 레이어를 생성하는 데 필수적입니다. Equinox 툴은 안전성 프로토콜을 내장하여 일관되고 안정적인 성능을 제공하며, 자산이 과부하되거나 손상되지 않도록 합니다. 한 레이어에서 다른 레이어로 균일하고 반복 가능한 침전물을 보장하는 정교한 밀도 (Dense) 승화 모델이 특징입니다. 또한 오염 방지 환경 (Contamination Free Environment) 을 통해 정적 및 에어로졸 오염을 제거하여 후속 장치 계층이 깨끗하고 결함이 없습니다. SEMITOOL Equinox는 광범위한 프로세스 기능을 갖추고 있으며 SU-8, AZ, BISMOC, PMMA 등과 같은 다양한 포토리스트 유형을 쉽게 처리 할 수 있습니다. 시간당 최대 25 개의 웨이퍼를 처리하도록 설계되었으며, 확장 된 포토 esist 증착 시간을 위해 탁월한 프로세스 제어 및 신뢰성을 제공합니다. 균일하고 반복 가능한 프로세스 성능을 보장하는 독특한 Multi-Point Spin-Coat 방법이 있습니다. 전반적으로, Equinox는 반도체 웨이퍼 처리를 위해 정확하고 반복 가능한 photoresist 증착을 제공하도록 설계된 고정밀 photoresist 처리 장비입니다. 고성능 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 장치를 위한 빠르고, 효율적이며, 안정적인 포토레시스트 코팅을 보장하는 다양한 고급 기능과 프로세스 기능이 있습니다.