판매용 중고 SEMITOOL CY-20 #9141284

SEMITOOL CY-20 포토 esist 장비는 반도체, 광전자 및 의료 장치 제작 프로세스에 사용하도록 설계된 다용도, 자동화 된 도구입니다. CY-20 시스템은 오픈 프레임 플랫폼을 사용하여 포토 리토 그래피 (photolithography), 증발 코팅 (evaporative coating) 및 스트립 오프 (strip-off) 와 같은 다양한 습식 벤치 응용 프로그램에 이상적입니다. 또한 반도체 프로세싱과 관련된 비용과 노동 강도를 줄이는 데 도움이 되는 다양한 옵션 (옵션) 을 제공합니다. 이 장치는 photoresist machine controller, photoresist processor, deposition track 및 다양한 처리 챔버의 4 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. photoresist tool controller는 자산의 "뇌 (brain)" 이며 전체 photoresist 처리 프로세스를 관리합니다. 레시피 처리, 운영 상태 모니터링, 일정 관리, 진단 테스트 (Diagnostic Testing) 등을 통해 정확한 결과를 보장합니다. 포토레시스트 프로세서 (photoresist processor) 는 진공병에서 장치 또는 모듈 노즐을 통해 포토레시스트 화학 물질을 옮기는 역할을 하며, 별도의 인클로저로 제어됩니다. 증착 트랙 (deposition track) 은 가공을 위해 기판을 원하는 위치로 운반하는 넓은 평평한 컨베이어 (conveyor) 모델이며, 챔버에 위치한 유지 보수 부품 (maintenance part) 도 있습니다. 마지막으로, 다양한 처리 실은 프리 베이킹, 스프레이/디스펜싱, 에칭 및 포스트 베이킹과 같은 실제 포토 esist 처리를 수행합니다. 각 챔버에는 노즐 (nozzle) 과 제트 (jet) 가 필요하며, 각 프로세스의 사양을 충족시키기 위해 쉽게 조정할 수 있습니다. SEMITOOL CY-20 장비는 정밀도가 가장 높은 다양한 저항 구조를 생성 할 수 있습니다. 유전체 증착, 반응 챔버 사용률 (reaction chamber utilization), 기판 증착 (substrate deposition) 과 같은 동일한 청소실에서 다른 도구 및 프로세스와 쉽게 통합 될 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 기판 또는 밸브 (valve) 부품에 대한 잔류 저항을 간단하고 효율적으로 제거하여 우수한 완제품을 보장합니다. 전반적으로 CY-20 포토레스 장치 (photoresist unit) 를 사용하면 신뢰할 수 있고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있으며 노동 강도를 줄일 수 있습니다. 이 기계는 다양한 옵션 (option) 을 갖춘 고도로 자동화된 플랫폼으로 구성되어 있어 다른 습식 벤치 (wet bench) 어플리케이션에 적합합니다. 다른 도구 및 통합 프로세스 제어 (Integrated Process Control) 와의 손쉬운 통합을 통해 더 빠른 주기 시간 및 더 높은 수율을 얻을 수 있습니다. 많은 기능과 기능을 갖춘 SEMITOOL CY-20 도구는 모든 반도체 및 광전자 제조업체에 적합한 선택입니다.