판매용 중고 SEMITOOL 870F #9268556
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SEMITOOL 870F는 화학 환경에서 반도체 웨이퍼를 처리하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 초석판 Nano Flex ™ 기술의 고급, 추가 개선 된 버전이 장착되어 있습니다. 870F는 반도체 재료를 패턴화하는 완전히 자동화된 정밀한 솔루션입니다. 통합 프로세스 온도 제어 시스템 (Integrated Process Temperature Control System) 을 통해 뛰어난 패턴 품질과 깨끗한 영역 균일성을 제공합니다. 최대 200mm 직경의 웨이퍼를 처리 할 수있는 기능으로, 2um ~ 50um 사이의 빠르고 정확한 기판 패턴을 가능하게합니다. SEMITOOL 870F는 통합된 고비용 효율성 사전 정렬 모듈을 제공합니다. 이 장치는 사전 정렬기의 웨이퍼 위치 (wafer position) 및 스테이지 정렬 (stage alignment) 을 모니터링하여 빠르고 정확한 기판 패턴화를 보장합니다. 또한 노출 챔버에서 빠른 부하 및 기판 언로드가 가능합니다. 870F 포토 esist 기계는 노출 프로세스에 두 개의 광원을 사용합니다. Cadax VCP 30에는 3kW 및 6kW Xenon 램프가 장착되어 있어 노출 과정에서 유연성이 있습니다. 이를 통해 반도체 시장에서 가장 어려운 프로세스의 노출 시간을 조정할 수 있습니다 (영문). SEMITOOL 870F에 사용되는 Nano Flex (tm) 기술은 정확한 DUV 광원 패턴화를 가능하게 하며, 고급 반도체 프로세스에 필요한 미세한 선폭 결과를 전달할 수 있습니다. 파장 범위가 넓은 UV 소스와 레이저 조명 에셋 (Laser Illumination Asset) 이 있어 외부 조명에 불필요한 노출없이 조명 패턴화를 가능하게합니다. 870F는 Cleanroom 등급 기준에 따라 Class 10 Cleanroom 환경에서 사용하도록 설계되었습니다. 혁신적인 리어 오프닝 액세스 패널 (Rear Opening Access Panel) 이 있으며 에폭시 (Epoxy) 와 스테인리스 스틸 (Stainless Steel) 및 부식에 강한 다른 구성 요소로 구성되어 있습니다. 보호 연액 추출 덕트가 포함되어 있으며 EPA 및 OSHA 배출 표준을 준수합니다. SEMITOOL 870F는 반도체 처리를 위해 특별히 제작 된 고급, 견고한 포토 esist 모델입니다. 고객은 안정적이고 고품질의 기판 패턴화 (patterning) 장비를 제공하며, 빠른 처리 시간을 통해 빠르고 효율적인 결과를 얻을 수 있습니다.
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