판매용 중고 SEMITOOL 8300 #9155186

SEMITOOL 8300은 CMP (chemical-mechanical planarization) 및 TCD (thermal chemical vapor deposition) 생산 프로세스에 사용하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 웨이퍼 표면에 대한 피니셔 결과를 달성하기위한 SEMITOOL 개발 시스템의 최신 개발입니다. 이 시스템은 터치 스크린 (touch screen), 손쉬운 작동 (easy operation), 로우 프로파일 (low-profile) 설계를 통해 운영자가 여러 수동 항목을 작성하지 않고도 레시피와 프로그램을 변경할 수 있습니다. 8300 장치는 3 축 플랫폼으로, 중요한 프로세스에 대해 향상된 반복 성과 정확성을 제공합니다. 웨이퍼 표면에서 정확하고 반복 가능한 측정을 위해 긴 수명의 비 접촉 측정 헤드가 특징입니다. 측정 헤드는 기판 바로 위에 위치하여, 최소한의 접촉을 가능하게하며, 챔버 오염을 더욱 최소화합니다. 이 기계는 가열 된 화학 전달 도구 (heated chemical delivery tool) 또는 챔버 통합 조작 자산으로 구성 될 수 있습니다. 가열 된 전달 모델은 최적화 된 청소 프로세스 및 제어 가능한 에치 프로세스를 위해 화학 물질을 정확하게 전달합니다. 챔버 통합 조작 장비는 정확한 재료 전송을 보장하고, 일관된 결과를 제공하고, 오염을 최소화합니다. 또한 SEMITOOL 8300은 사용자가 최적의 프로세스 결과를 달성하기 위해 자동화되고, 직관적이며, 단순화 된 접근 방식을 제공하기 위해 APC (Advanced Process Control) 를 제공합니다. APC는 고급 알고리즘을 사용하여 CCP 및 TCD 프로세스를 정확하게 제어합니다. 또한, 시스템에는 구성 가능한 센서 세트가 포함되어 있어, 사용자가 웨이퍼 청결 및 접착 수준을 제어할 수 있습니다. 이러한 기능을 사용하면 재료 제거, 청소, 증착을 최적화하여 재현이 가능하고 반복 가능한 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. 8300은 유지하기가 매우 쉽습니다. 이 장치에는 클리닝 머신 (cleaning machine), 다중 프로세스 탱크 (multiple process tank) 및 뒷면 Z 높이 모니터 (Z-height monitor) 가 포함되어 있습니다. 또한, 최적의 도구 제어를 지원하는 MTBF (mean time before failure) 프로세스 제품군을 사용할 수 있습니다. 요약하면, SEMITOOL 8300 (SEMITOOL 8300) 은 다양한 생산 프로세스에 사용되는 데 이상적인 차세대 포토레시스트 자산입니다. 고급 프로세스 제어, 장기 비접촉 측정 헤드 (non-contact measuration head), 자동화된 재료 전송, 유지 보수 및 신뢰성 용이성이 특징입니다. 이 모델은 정확하고 반복 가능한 프로세스 결과를 보장하여 고객의 만족을 보장합니다.