판매용 중고 SEMITOOL 480 #78271

SEMITOOL 480은 포토 esist 기술을 기반으로하는 반도체 웨이퍼 처리 기계입니다. 정밀 반도체 장치 (예: 집적 회로 및 기타 마이크로 일렉트로닉 부품) 의 생산에 사용하도록 특별히 설계되었습니다. 이 장비는 포토리토그래피 (photolithography) 개념을 중심으로 만들어졌으며, 이는 집적 회로의 제조 공정에서 중요한 단계입니다. "포토리토그래피 '과정 에는 자외선 과 같은 광원 을 사용 하여" 포토마스크' 로부터 기판 에 "패턴 '을 전달 하는 것 이 포함 된다. 그런 다음, "패턴 '은 광전술사 를 사용 하여 개발 되고 적합 한 화학 물질 이나" 플라즈마' 처리 를 이용 하여 더욱 식각 된다. 480 은 자외선 방사선 을 사용 하여 파퍼 (wafer) 에 있는 패턴 의 정확 한 발전 을 가능 케 하기 위해 광저항 (photoresist) 기술 을 사용 한다. 이 시스템은 전자 빔 소스 (electron-beam source) 를 특징으로하며, 이를 사용하여 웨이퍼에 포토리스 스터를 노출시켜 원하는 패턴을 만듭니다. 또한, 이 장치에는 포토마스크의 정확하고 고해상도 이미지를 제공하는 CIM (Critical Imaging Module) 이 포함되어 있습니다. 그런 다음, 이 이미지 는 사진 촬영 중 에 참조 로 사용 되어 올바른 "패턴 '이" 웨이퍼' 에 노출 되고, 개발 되고, 식각 되도록 한다. 정확성과 균일성을 향상시키기 위해 SEMITOOL 480에는 프로그램 가능한 경사 장치도 있습니다. 경사 장치 (bevel unit) 는 매우 작은 피쳐 치수로 집적 회로의 생산을 용이하게하기 위해 에치 (etch) 의 깊이를 조정하는 데 사용될 수 있습니다. 기계는 또한 온도 조절 장치 (temperature control unit) 를 포함하며, 이는 개발 중 최적의 온도에서 광저항 물질을 유지하는 데 사용됩니다. 또한 480은 고정밀 패턴 정렬 모듈을 갖추고 있습니다. 이 모듈을 사용하면 포토 마스크 (photomask) 를 웨이퍼에 빠르고 정확하게 정렬하여 정확한 패턴 노출을 보장할 수 있습니다. 또한, 이 도구에는 전체 제조 공정을 모니터링하고 제어하는 고급 소프트웨어 (advanced software) 가 포함되어 있습니다. 요약하면, SEMITOOL 480은 고정밀 반도체 장치 제조를 위해 특별히 설계된 고급 포토레시스트 (photoresist) 자산입니다. 전자 빔 소스, 프로그래밍 가능한 경사 장치, 온도 제어 장치 (temperature control unit) 및 패턴 정렬 모듈 (pattern alignment module) 이 특징이며, 모두 웨이퍼의 패턴 개발에서 뛰어난 정확성과 균일성을 가능하게합니다. 이 모델에는 전체 제조 공정 (Manufacturing Process) 을 관리하고 제어하는 포괄적인 소프트웨어가 함께 제공됩니다.