판매용 중고 SEMITOOL 470F #9268570

SEMITOOL 470F는 반도체 제조 및 생산 산업을위한 웨이퍼 엔드 포인팅 및 프로파일 링을 위해 설계된 Photoresist 장비입니다. 이 시스템은 다양한 기능과 장점을 갖춘 높은 처리량 (HI) 과 높은 정확도 (HA) 프로세싱을 제공하여 최적의 결과를 얻을 수 있도록 설계되었습니다. 고객 사양과 요구에 따라 구성할 수 있는 모듈식 (modular) 설계가 특징입니다. 470F는 회전 웨이퍼 스테이지와 아르곤으로 채워진 에치 챔버 (etch chamber) 를 통합 한 자동 처리 챔버로 구성됩니다. 이 로 말미암아 "웨이퍼 '는 완전 히 안정 된 위치 에 있게 되며, 그 결과 는 일관성 있는" 에칭' 을 보장 하고, 또한 어떤 미립자 나 기타 오염 으로부터 보호 해 준다. 이 장치에는 최신 포토레시스트 (photoresist) 기술, 특히 단계 및 반복 마스크 정렬기 (Steps and Repeat Mask Aligner) 가 장착되어 있으며 정확한 정렬 및 노출 작업을 수행하도록 설계되었습니다. 이 기계는 또한 고도의 저항 세그먼트 프로세서 (Advanced Resist Segment Processor) 를 특징으로하며, 이 프로세서는 아토마이저 (Atomizer) 및 노즐 (Nozzles) 어셈블리뿐만 아니라 포토레시스트 컴포넌트의 로드 및 언로드를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 도구에는 매우 정확하고 재현 가능한 방식으로 복잡한 에칭 단계를 수행하도록 특별히 설계된 다양한 전극, 스피너 (spinner) 및 스틸 (stir) 도구가 포함됩니다. 또한, 에셋은 완전 통합된 플라스틱 (plastic) 및 금속 (metal) 마스크 정렬기를 갖추고 있어 주기 시간과 처리량 측면에서 더욱 효율적입니다. 이 모델은 포토레스 처리 (photoresist processing) 시 발생하는 높은 압축력 (compressive force) 으로 인한 손상 위험을 최소화하기 위해 광범위한 안전 기능으로 설계되었습니다. 또한, SEMITOOL 470F 는 다양한 유연성 옵션을 제공하여 고객의 요구에 맞게 조정할 수 있습니다 (예: 가변 웨이퍼 크기, 기판 및 경사 유형). 이 장비는 일관성 있는 결과뿐만 아니라, 탁월한 수준의 프로세스 성능, 생산성, 뛰어난 신뢰성, 견고성 등을 제공합니다. 추가적인 이점으로서, 이 시스템에는 PC 기반 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 가 장착되어 있어 뛰어난 제어, 모니터링 및 진단 기능을 제공합니다. 470F Photoresist Unit은 광범위한 PCB 및 반도체 제조업체에 이상적인 솔루션입니다. 강력한 구성과 자동화된 기능과 결합된 고정밀도 포토레시스트 (photoresist) 프로세싱은이 기계를 대형과 소형화 (small production) 실행에 이상적인 선택으로 만듭니다. 사용자 친화적 설계, 고급 기능, 뛰어난 성능을 자랑하는 이 툴은 탁월한 비용 가치 (영문) 를 제공합니다.