판매용 중고 SEMITOOL 270 #293812106

SEMITOOL 270은 반도체 하드웨어의 제작에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 네바다 기반 반도체 장비 제조업체 인 세미 툴 (SEMITOOL) 이 개발 한이 시스템은 포토 esist 필름을 웨이퍼 표면에 배치하는 데 사용됩니다. 포토레스 필름 (photoresist film) 은 베어 웨이퍼 (bare wafer) 와 다른 에칭 프로세스 사이의 보호 레이어 역할을하여 모든 추가 처리 단계의 정확성을 보장합니다. 270은 효율적이고 정확하도록 설계되었습니다. 이 장치는 최대 700mm 웨이퍼를 처리하도록 설계되었으며 시간당 1000 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 최첨단 균일성과 정확성을 보장하는 고해상도 비전 (vision) 도구를 갖추고 있습니다. 또한, 자동 웨이퍼 트랙 (Automatic Wafer Track) 어셈블리는 정확한 간격 및 온도 제어를 유지하여 웨이퍼 양쪽에 균일 한 포토 esist를 증착 할 수 있습니다. SEMITOOL 270 은 구성 기능이 뛰어나며, 특정 운영 요구 사항에 맞게 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 에셋에는 AC 및 DC 모터 잠금 셔터 이동, 조정 가능한 스핀 속도 및 사용자 정의 가능한 PCB 노출 매개 변수가 모두 있습니다. 광원을 수용하는 노출 챔버는 제논 (Xenon) 에서 할로겐 (Halogen) 까지 다양한 광원으로 구성 될 수 있습니다. 이 모델에는 가변 너비 스프레이 노즐 (variable-width spray nozzles) 도 포함되어 있으며, 전체 웨이퍼에 대한 포토 esist의 균일하고 균일 한 적용을 제공합니다. 이 장비에는 입자 필터 (particle filter) 가 장착되어 있으며, 이 필터는 먼지 입자를 캡처하고 제거하여 최적의 프로세스 무결성을 제공합니다. 270 은 단일 (single-step) 프로세스와 이중 (dual-step) 프로세스를 모두 지원하며, 자동 웨이퍼 처리는 최고의 처리량에 최적화되어 있습니다. SEMITOOL 270은 고도로 구성 가능한 포토 esist 시스템입니다. 고해상도 비전 유닛, AC 및 DC 모터 잠금 셔터, 조정 가능한 스핀 속도, 사용자 정의 가능한 PCB 노출 매개변수 등의 고정밀 기능을 통해 반도체 제조에 이상적인 선택이 가능합니다. 또한, 기계의 효율적인 입자 필터 및 균일 한 스프레이 노즐은 최적의 프로세스 무결성을 보장합니다.