판매용 중고 SEMITOOL 270 #27653

세미툴 270 (SEMITOOL 270) 은 웨이퍼 제작에 사용될 때 신뢰할 수 있고, 비용 효율적이며 반복 가능한 결과를 제공하도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이것 은 "포토리스토그래피 '공정 의 중요 한 부분 인데, 이것 은 반도체 표면 에 복잡 한" 패턴' 을 만드는 데 사용 된다. 270은 포토 esist 재료의 증착, 포토 esist 레이어의 프리 베이크 (pre-bake) 및 포스트 베이크 (post-bake) 및 저항 후 레이어의 저항을 포함하여 광범위한 응용 프로그램을 지원합니다. SEMITOOL 270은 다양한 응용 분야에 사용될 수있는 저온, 비정질, 폴리머 솔루션입니다. 파퍼 (wafer) 의 표면에 스핀 코팅 (spin-coated) 된 다음 광사 (photoresist) 를 활성화하는 데 사용되는 빛의 특정 파장에 노출되도록 설계되었습니다. 일단 빛 에 의하여 활성화 되면, 노출 된 "포토레시스트 '는 단단 하고 안정 이 되어" 웨이퍼' 의 표면 에 "패턴 '을 만들어 내고, 그 후" 마이크로패브라이션' 에 사용 할 수 있게 된다. 270 (270) 은 웨이퍼의 포토 esist 레이어에 대한 뛰어난 제어 수준을 제공합니다. 다른 프로세스의 요구 사항에 맞게 다양한 두께 (thickness) 와 포토레시스트 레이어 (photoresist layer) 를 제공하도록 구성할 수 있습니다. 또한 이 시스템은 다양한 속도 설정 (speed settings) 을 제공하여 구성 프로세스의 정확한 사양에 맞게 장치를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 세미툴 270 (SEMITOOL 270) 은 최첨단이며 신뢰성이 뛰어나므로, 실행을 반복할 수 있으며 필요한 모든 변경 사항을 쉽게 수행할 수 있습니다. 또한 최대 200mm 크기의 웨이퍼 (wafer) 를 처리 할 수 있으므로 대용량 프로덕션 실행에 사용할 수 있습니다. 전체 설치가 비교적 간단하고 유지 보수가 최소화되기 때문에, 기계도 매우 비용 효율적입니다. 요약하자면, 270 은 신뢰할 수 있고, 비용 효율적이며, 반복 가능한 포토레시스트 툴로, 웨이퍼 제작의 우수한 결과를 제공합니다. 포토리스 (photoresist) 레이어에 대한 정밀 제어를 제공하며, 최대 200mm 크기의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 대용량 생산 실행에 적합합니다. 세미툴 270 (SEMITOOL 270) 은 매우 효율적이며, 다양한 속도 설정을 제공하여 사용자는 에셋을 해당 제조 프로세스의 정확한 사양에 맞게 구성할 수 있습니다.