판매용 중고 SEMES KPS-60V #9265100

세메스 (SEMES) KPS-60V 포토레시스트 (photoresist) 장비는 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 생산을 비롯한 다양한 산업 분야에 사용되는 포토마스크 생성을 위해 설계된 고성능 시스템이다. 고해상도 진공 증발 장치를 기반으로 한 KPS-60V (KPS-60V) 는 감광성 (저항성) 물질을 균일하고 반복 가능한 방식으로 증착시켜 매우 훌륭한 기능으로 매우 상세한 포토 마스크 (photomask) 를 생성 할 수 있습니다. SEMES KPS-60V 기계의 주요 이점 중 일부는 매우 정밀도가 높은 실리콘 웨이퍼, 기판 및 기타 재료에 감광 물질을 증착 할 수있는 능력입니다. 공구의 두 가지 별개의 부분이 증착 프로세스, 진공 열 증발 장치 (Vacuum Thermal Evaporation unit) 및 포토 저항 처리 장치 (Photo Resist Processing unit) 에 관여합니다. 진공 열 증발 장치 (Vacuum Thermal Evaporation unit) 는 감광 물질의 균일 한 증착을 담당하며, 최소 기능 크기가 0.1 미크론 인 포토 esist 물질을 매우 균일 하게 구성 할 수 있습니다. Photo Resist Processing 장치에는 photomask 필름 품질을 검사하기 위한 내장 광학 헤드 (optical head for checking photomask film quality), 재료 내의 photomask 패턴을 만들기 위한 레이저 라이터 (laser writer), photoetch 프로세스 등의 다양한 추가 구성 요소가 포함되어 있습니다. 또한, KPS-60V는 photomask 가열 및 에칭 프로세스를 세밀하게 조정하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 세메스 (SEMES) KPS-60V 자산의 주요 초점은 매우 세밀한 세부 사항으로 엄청나게 정확한 포토 마스크 (photomask) 를 생산하는 능력입니다. 이것 은 "포토레지스트 '의 증착 중 에 진공 과정 을 매우 정밀 하게 감시 하고 제어 하는 일 을 통하여 달성 된다. KPS-60V 는 매개변수를 조정하는 데 매우 빠른 응답 시간으로, 전체 포토마스크 (photomask) 제작 과정에서 최고 수준의 효율성을 유지할 수 있습니다. 결론적으로, SEMES KPS-60V 포토레시스트 모델은 고정밀도 기능으로 매우 정확한 포토마스크 (photomask) 를 만들 수 있도록 설계된 고도의 장비입니다. 진공 열 증발 장치 (vacuum thermal evaporation unit), 레이저 라이터 (laser writer) 및 포토 에치 프로세스 (photoetch process) 의 조합으로 포토 마스크 생산 기술 분야의 선두 주자입니다. 이 시스템의 고급 컨트롤과 빠른 응답 시간 (fast response time) 을 통해 정확하고 상세한 포토마스크를 안정적이고 신속하게 생성할 수 있습니다.