판매용 중고 SEMES EKPS-01 #9352140

SEMES EKPS-01 (SEMES EKPS-01) 은 집적 회로 및 기타 관련 마이크로 일렉트로닉 장치의 제조에 사용되는 화학적으로 증폭 된 양성 광사 장비이다. 광저항제는 일반적으로 감광성 폴리머 필름 (photosensitive polymer film) 으로 구성되며, 기판에 코팅되고, 광원을 사용하여 패턴화 된 후 패턴화 된 이미지를 형성하도록 개발된다. EKPS-01 (EKPS-01) 은 솔루션 안정성 향상, 접착 및 해상도 향상, 유사 시스템에 대한 프로파일 개선 등 경제적인 포토리스 시스템입니다. 이 장치의 주요 구성 요소는 포토 esist의 바닥 및 중간 표면 레이어, 배리어 레이어 (barrier layer) 및 포토 esist의 상단 표면 레이어입니다. 바닥 표면 층은 기질에 접착을 촉진하는 폴리 아미데이 미드 폴리머 (polyamideimide polymer) 로 구성되며, 광저장제의 중간층 및 상단 층은 우수한 해상도와 에치 저항을 위해 설계된 크로스 링크 폴리 이미 드 폴리머 (crosslinked polyimide polymer) 로 구성된다. 장벽은 산소/수분 침입을 차단하기 위해 폴리 아미드 아이 미드로 구성됩니다. 이러한 유형의 구조는 장치 제작 중에 접착력을 향상시키고, 해상도를 높일 수 있도록 도와줍니다. 이 포토 esist 기계의 주요 장점은 뛰어난 해상도입니다. SEMES EKPS-01은 0.1 ½ m 정도의 작은 기능을 생성 할 수 있으며, 이는 고급 회로 응용 분야에 중요합니다. 또한, 이 도구는 안정성 향상, 제조 프로세스의 낭비 최소화, 주기 시간 감소로 인한 시간 절약 등을 제공합니다. EKPS-01의 접착제 특성은 패턴 처리 중 크래킹 또는 필링을 최소화하는 데 도움이됩니다. SEMES EKPS-01 자산은 화학 증폭 (CA) 프로세스를 제공하여 높은 수준의 해상도를 유지하면서 노출 프로세스의 민감도와 속도를 증가시킵니다. CA 공정은 수용액을 통해 이루어지며 두 가지 구성 요소 (산 생성기와 안정제) 를 포함합니다. 산성 발전기 는 광활성화 단계 에서 감도 를 증가 시키며, 안정제 는 조기 발달 을 방지 한다. 이 프로세스는 향상된 이미지 품질을 제공하면서 주기 시간 (cycle time) 을 크게 단축한다는 점에서 유익합니다. 우수한 해상도, 향상된 안정성, 우수한 접착 및 화학 증폭 프로세스로 인해 EKPS-01 포토레시스트 모델은 회로 제작에 이상적인 선택입니다. 고급 기능을 통해 해상도 및 에치 저항성 (etch-resistance) 이 향상되어 다양한 애플리케이션 조건에서 탁월한 성능을 제공합니다.