판매용 중고 SCREEN SC-60A-AVFLG #293616235

SCREEN SC-60A-AVFLG는 에칭 및 리소그래피 목적으로 개발 된 포토 esist 장비입니다. 포토 마스크, 회로 기판, 전자 부품 등 다양한 어플리케이션을 위해 설계되었습니다. 이 시스템은 수십 년 동안 사용되어온 시도되고 진정한 긍정적 인 톤 포토레지스트 (positive-tone photoresist) 기술을 기반으로합니다. 이 장치는 프로그램 가능한 노출 시간 및 강도 수준을 허용하는 쿼츠 할로겐 (quartz-halogen) UV 광원을 사용합니다. 그런 다음, 정확한 서브 미크론 정렬 정확도를 위해 보정 할 수있는 모듈 식 스캐닝 테이블에 결합됩니다. 전체 시스템은 처리량 향상을 위해 자동 작업과도 호환됩니다. SC-60A-AVFLG는 프로세스의 노출, 증착 및 개발 단계를 별도의 단계로 분리하는 3 파트 저항 모델을 사용합니다. 이 모델을 통해 에칭 (etching) 프로세스를 보다 효율적으로 제어할 수 있으며, 생산의 오차율을 줄이는 데 도움이 될 수 있습니다. 포토리스 트 (photoresist) 자체는 독특한 폴리머 블렌드 (polymer blend) 를 사용하여 생성되며, 이는 기질에 대한 최적의 접착을 보장하면서 합리적인 수의 개발 및 노출주기를 제공한다. 이를 통해 SCREEN SC-60A-AVFLG는 다양한 산업 응용 프로그램에 적합합니다. 마지막으로, 이 도구에는 여러 테스트 및 검증 레이어가 포함되어 있습니다. 여기에는 자동화된 테스트 (automated test) 와 최종 제품의 품질을 보장하는 수동 검사 (manual inspection) 가 혼합되어 있습니다. 또한, 에셋은 포토 esist 레이어의 성능을 더욱 향상시키기 위해 진공 치료 (vacuum-curing) 와 같은 포스트 프로세스 트리트먼트와 호환되도록 설계되었습니다. 결론적으로, SC-60A-AVFLG는 정확하고 반복 가능한 에칭 응용 프로그램을 위해 설계된 전문적인 포토 esist 모델입니다. 3 부로 구성된 저항 모델, 모듈 식 스캔 테이블, 쿼츠 할로겐 UV 광원, 강력한 테스트 및 검증 프로세스 (단일 패키지로 제공) 가 특징입니다. 이것은 신뢰할 수 있고 정확한 포토리스 (photoresist) 장비를 요구하는 응용 프로그램에 이상적입니다.