판매용 중고 SCL CD 500 #293614894
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SCL CD 500 (SCL CD 500) 은 복잡한 집적 회로 제조에 사용하기 위해 특별히 설계된 포토리스 (photoresist) 장비로, 복잡한 구조를 노출하고 개발하는 과정에서 높은 정밀도와 정확도를 제공합니다. CD 500은 photomask stage, lumination system 및 projection unit의 세 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 포토 마스크 (photomask) 단계는 광학 플랫 웨이퍼가 장착 된 정밀 가공 마스크 홀더입니다. 정확한 마스크 정렬을 유지하는 데 높은 정확도와 안정성이 있습니다. 조명기는 고출력 균일 한 조명 도구를 갖춘 6 방향, 12 방향 또는 24 방향 광학 블레이드 어레이입니다. 투사 에셋은 고해상도 이미징을 보장하기 위해 전송 효율이 높도록 설계된 VHNA (Very High Numerical Aperture) 광 렌즈를 사용합니다. SCL CD 500에는 완전히 컴퓨터 화 된 사용자 인터페이스가 있으며, 웨이퍼 마스크 정렬 및 노출의 고급 자동화를 제공합니다. 정확한 노출, 용량, 노출 주기를 위해 모델을 쉽게 프로그래밍 할 수 있습니다. 또한 전체 주기 동안 최대 정확도를 보장하는 강력한 디버깅 (debugging) 옵션이 있습니다. CD 500은 복잡한 집적 회로 (integrated circuit) 제조에 탁월한 정밀도와 정확성을 갖춘 운영자를 제공합니다. 초정밀 전력 조정, 우수한 패턴 균일성, 미세 피치 이미징, 정확하고 정확한 패턴 복제, 다이 투 다이 오버레이 시뮬레이션과 같은 고급 리소그래피 기능이 특징입니다. 또한 업계 최고의 이미지 분석 툴 (image analysis tools) 을 통합하여 예상 패턴 결과를 정확하게 검증하고 운영 전에 패턴을 검증할 수 있습니다. 이 장비는 다양한 포토레시스트 (photoresist) 와 함께 작동하도록 설계되었으며, 자동화된 프로세스 레시피는 다른 재료 조합에 맞게 빠르게 조정될 수 있습니다. SCL CD 500은 최첨단 어플리케이션 집적 회로의 대량 생산에 적합하며, 최고 수준의 수율을 달성하고, 시간 (time) 과 생산 비용을 절감할 수 있는 안정적이고, 효율적이며, 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다. 복잡하고 최첨단 (최첨단) 프로세스가 필요한 전문 반도체 제작 시설에 적극 권장됩니다.
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