판매용 중고 SAUNDERS 5400S #9106451

손더스 5400S (SAUNDERS 5400S) 는 다양한 산업 목적으로 포토 마스크의 정밀도를 향상시키기 위해 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 프로세스 기반 노출, 디지털 마스크 이미지 전송, 드라이 필름 저항 레이어, 이미지 최적화 등 다양한 디지털 리소그래피 프로세스를 지원합니다. 매우 정확하고 성공적인 결과를 제공하는 포토 마스크 (photomask) 개발을 위한 완벽한 솔루션입니다. 이 장치는 고해상도, 안정된 이미징 성능, 진한 차폐 영역의 레이어 두께 증가 등을 활용하는 고급 사진 이미징 (photo-imaging) 기술을 사용합니다. 노출 기술은 또한 이미지 전송에 대한 높은 정확성을 보장하는 반면, 포토리스 (photoresist) 재료는 결함이 낮은 영상을 허용합니다. 또한 시스템의 빔 정렬 기술 (Beam Aligning Technology) 은 잘못된 정렬 효과를 줄이고 이미지 품질을 향상시킵니다. 5400S는 향상된 생산성, 비용 절감, 품질 향상, 신뢰성 향상 등, 리소그래피 애플리케이션에 다양한 이점을 제공합니다. 예를 들어, 처리량이 높으면 하루에 수백 개의 마스크를 빠르게 생성 할 수 있습니다. 이는 비용과 시간을 절감하는 동시에, 탁월한 수익률과 성능을 보장합니다. 수작업 (Manual) 과 자동화된 프로세스 (Automated Process) 를 선택하여 원하는 경우 생산성 향상을 활용할 수 있습니다. 이 장치를 통해 사용자는 Edge-Enhancing 기술과 같은 고급 Image-optics 기능을 활용할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 더 뛰어난 정렬 및 디테일이 필요한 복잡한 마스크 (mask) 를 만들 수 있습니다. 이 기계는 또한 마스크 (masks) 와 균일 한 두께를 유지하기 위해 정렬 빔 추적 (alignment beam tracking) 기능을 제공합니다. SAUNDERS 5400S에는 UV/Vis 분광법 및 x- 선 회절 측정 (x-ray diffraction measurement) 과 같은 고급 진단 도구와 향상된 리소그래피 응용 프로그램을 위한 다양한 프로세스 모니터링 기능 및 설정이 있습니다. 또한 빔 추적 장치 (옵션) 를 사용하면 적절한 포커스를 유지하면서 빔 정밀도를 제어할 수 있습니다. 5400S는 반도체, 의료 기기, 옵토 전자 (opto-electronic), 칩 디자인 등 다양한 업종에서 사용하기에 적합합니다. 고정밀도 및 비용 효율적인 photomask 용으로 photolithography 솔루션을 활용하는 데 이상적인 솔루션입니다. 뛰어난 속도, 정밀도, 확장성을 통해 포토마스크 (photomask) 제작 도구를 찾는 사람들에게 탁월한 옵션을 제공합니다.