판매용 중고 SANYU SC-701C #201219
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ID: 201219
Carbon coater
Time required from start-up to carbon coating is ~5 minutes
One setting of carbon in its cartridge allows repeating carbon coating tens of times
Coating is started by pressing a button
To evacuate this coater, you have only the chamber door. Then, evacuation is automatically started (there is no need of valve operation)
The carbon holder is a cartridge type
Carbon vapor reaches hard-to-reach portions of the specimen because of low vacuum
There is no need of a specimen rotating and tilting device.
SANYU SC-701C는 고해상도, 정밀 이미징을 위해 설계된 최첨단 포토리스 시스템입니다. 반도체, 미세 곡물 생산, 또는 인쇄 회로 기판 프로토 타입 (prototyping) 과 같은 석판 공정에 사용하기위한 것입니다. 이 "시스템 '은 최고 1" 미크론' 의 뛰어난 해상도 와 더 빠른 노출 시간 을 위한 높은 광도 를 특징 으로 한다. SC-701C는 대략 큐브 모양이며, 작동 용이성을 위해 광원, 거울, 이미징 렌즈 및 컨트롤 패널로 구성됩니다. 사용 된 광원은 최첨단 고강도 중파 파장 (UV) 광원입니다. 거울은 자외선 (UV light) 을 저항성 코팅 (resist-coated) 기판 위에 정확하게 지시하여 노출시키는 반면, 이미징 렌즈는 디자인의 고해상도 이미지를 제공합니다. 컨트롤 패널에서는 강도 및 UV 노출 시간을 조정할 수 있습니다. SANYU SC-701C는 고급 이미징 기술을 사용하여 마이크로 서킷 및 인쇄 회로 보드의 고해상도와 정확한 이미지를 생성합니다. 뛰어난 이미지 충실도 (fidelity) 를 유지하면서 1 미크론 너비의 얇은 선을 만들 수 있습니다. 또한, 조절 가능한 광도 (light intensity) 는 노출 시간을 최적화하여 높은 처리량 연산을 가능하게 합니다. SC-701C는 또한 노출의 균일성을 제어하기위한 독특한 폐쇄 메커니즘을 특징으로합니다. 이 메커니즘을 사용하면 설계에 따라 광도 (light intensity) 가 변하여 일관된 광학 노출을 보장할 수 있습니다. 이는 설계의 복잡성과 상관없이 노출의 균일성을 보장합니다. 또한 SANYU SC-701C는 손쉬운 운영 및 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 직관적으로 사용할 수 있는 컨트롤 패널이 함께 제공되며, 이 패널을 통해 조작자는 설정을 빠르게 조정할 수 있고, 자가 청소 (self-cleaning) 기능을 통해 이미징 광학을 먼지와 이물질이 없도록 할 수 있습니다. SC-701C는 다양한 석판 응용 분야에 적합한 안정적이고 고급 포토 esist 시스템입니다. 고해상도 (High Resolution) 와 정확한 이미지 (Image) 를 제작할 수 있으며, 매끄럽고 균일한 노출을 통해 모든 이미징 요구에 적합한 솔루션을 제공합니다.
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