판매용 중고 S CUBED Scene 8 #9251777

S-CUBED S CUBED Scene 8 (S-CUBED S Scene 8) 과 같은 포토 esist 장비는 나노 스케일 컴포넌트 또는 회로에서 초미세 기능을 만드는 데 주로 사용되는 특정 유형의 포토 리토 그래피입니다. 광자 회로 (photonic circuit) 나 집적 회로 (integrated circuit) 를 만드는 것과 같은 복잡한 높은 신뢰성 애플리케이션에 자주 사용됩니다. Photolithography는 일반적으로 기판에 S-CUBED Scene 8과 같은 유기 감광 필름의 적용으로 시작합니다. 감광 필름은 가장 훌륭한 구조를 정의하기 위해 초보라광에 노출됩니다. 그 다음 에 감광 "필름 '의 노출 되고 노출 되지 않은 부면 은 화학 발전기 와" 에칭' 으로 제거 된다. S-CUBED S CUBED Scene 8 포토 esist 시스템은 충실도 이미징을 갖춘 초미세 기능을 만들도록 설계되었습니다. 이 장치의 주요 특징은 뛰어난 라인 너비 제어성과 매우 낮은 이미징 왜곡입니다. 이 기계는 다중 계층 구성 (multi-layer fabrication) 과 고급 이미징 기술을 활용하여 정밀도 또는 속도를 저해하지 않고 높은 명암의 해상도를 제공합니다. 초미세 기능의 경우 S-CUBED Scene 8 도구는 공중 이미지 형성과 자화 해제 기술의 조합을 사용합니다. 이것 은 "렌즈 '를 통과 할 때 실제 특징 의 크기 가 줄어든다는 것 을 의미 한다. 이 프로세스는 최고 수준의 정밀도를 보장합니다. 이 모든 것이 포토레스 필름 (photoresist film) 의 여러 층에 의해 더욱 향상되어 해상도를 희생하지 않고 고화질 이미징 (high-fidelity imaging) 을 가능하게한다. S-CUBED S CUBED Scene 8 자산은 여러 필름 레이어를 지원하여 복잡한 형상을 활성화합니다. 레이어 두께를 신중하게 제어하여 최상의 결과를 얻을 수 있습니다. 이 모델은 또한 양수 (positive) 및 음수 저항 (negative resist) 개발, 고속 이미징 등 다양한 패턴 옵션을 제공합니다. S-CUBED Scene 8 (S-CUBED Scene 8) 에서 제공하는 다양한 기능과 옵션은 초소형 기능 및 소형 회로 제작을 위해 매력적인 선택입니다. S-CUBED S CUBED Scene 8 장비는 신뢰성이 높으며 고정밀 결과를 제공 할 수 있습니다. 이 시스템은 낮은 이미징 왜곡, 고속 처리 기능 등 여러 가지 장점을 자랑합니다. 초미세 기능 및 소형 회로를 만들 때 S-CUBED Scene 8 장치는 광자 (photonic) 또는 집적 회로 (integrated circuit) 를 만드는 것과 같은 응용 분야에 매우 유용합니다. 이 기계는 제조 공정 (Manufacturing Process) 을 최적화하여 가능한 최고 품질의 결과를 얻을 수 있습니다.