판매용 중고 RITE TRACK SVG 8826 / 8836 #9209021

RITE TRACK SVG 8826/8836은 프로세스 사진 촬영 분야에서 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. Photolithography는 집적 회로 및 나노 스케일 포토 마스크 제작에 사용되는 프로세스입니다. 이 장치는 노출 장치, 포토 마스크, 알루미늄 마스크 홀더 및 포지셔닝 단계로 구성됩니다. 초고광도 전자빔 조명이 장착된 SVG 8826/8836 노출 장치 (Imposure Unit) 는 서브미크론 범위의 일관된 노출을 통해 고해상도 이미지를 용이하게 합니다. 이를 통해 고밀도 공정 광마스크 및 정확한 미세 전자 제조를 개발할 수 있습니다. 또한 내장형 (optical-alignment) 시스템을 통해 빠르고 정확하게 이미지 위치를 지정할 수 있습니다. RITE TRACK SVG 8826/8836의 포토 마스크 (photomask) 는 UV 및 전자 빔 조정에 민감한 실리콘 접지 유리로 만들어져 고해상도 이미지와 정렬이 가능합니다. 알루미늄 마스크 홀더는 포토 마스크를 안전하게 저장하고 운송하도록 설계되었습니다. 홀더에는 기계적 응력 (mechanical stress) 을 최소화하는 기능도 장착되어 있어 마스크 표면이 매끄럽고 평평하여 포토마스크 (photomask) 피쳐 정의가 뛰어납니다. 마지막으로, 포지셔닝 단계와 X-Y 스캐닝 테이블을 사용하면 빠르고 정확한 정렬과 초점을 맞춰 마이크로일렉트로닉 (microelectronic) 구성 요소를 일관되고 정확하게 제작할 수 있습니다. 스캐닝 테이블은 정밀 볼 (precision ball) 나사로 구동되는 반면, 닫힌 루프 제어 장치 (closed loop control unit) 는 스캐닝 테이블에 피드백을 제공합니다. 이 설계는 포토 마스크 (photomask) 와 노출 장치 (exposure unit) 를 정확하게 재배치하고 적절한 정렬을 보장합니다. 전반적으로 SVG 8826/8836 은 정확하고 신뢰할 수 있는 포토레시스트 (photoresist) 머신으로, 미드레인지/미드레인지 간 노출에서 고밀도 해상도 이미지를 제공합니다. 신뢰성 있는 노출 장치 (exposure unit) 와 함께 빠르고 정확한 위치 (positional) 를 통해 모든 마이크로 일렉트로닉스 제작 프로세스에 이상적인 선택입니다.