판매용 중고 PVA Delta 8 #293623207

PVA 델타 8 (Delta 8) 은 반도체 장치 및 기타 마이크로 일렉트로닉 구조를 이미징 할 수있는 포토 리토 그래피 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 photoresist 시스템은 PVA (polyvinylalcohol) 로 알려진 폴리머 물질 층으로 구성되며, 이 장치는 장치와 photoresist 필름 사이의 마스킹 제로 작용합니다. 델타 8 (Delta 8) 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 자외선에 매우 높은 감도를 가지며 피쳐 크기를 8 미크론까지 해결할 수 있습니다. 특히 소형의 기능 크기와 고해상도 (high resolution) 이미지가 필요한 장치 및 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 구조에 유용합니다. PVA Delta 8 photoresist 기계는 photoresist, basecoating material, etch resistant material 및 polymer film의 4 가지 구성 요소로 구성됩니다. photoresist 레이어는 UV 라이트를 사용하여 패턴화되며 이미징 레이어 역할을합니다. 원하는 피쳐의 이미지를 생성하기 위해 개발된 패턴 (patterned) 영역을 선택적으로 노출시킵니다. 베이스코팅 레이어 (basecoating layer) 는 포토레스 레이어의 캐리어 역할을하며, 이미징 프로세스의 정확성을 보장하는 데 필요한 안정성을 제공하는 재료입니다. 에치 저항성 재료 (etch resistance material) 는 에칭 중 피쳐를 보호하며 다양한 재료를 커버하도록 설계 될 수 있습니다. 마지막으로, 폴리머 필름 (polymer film) 은 이미징 프로세스를 봉인하고 구조를 보호하는 유연한 층입니다. 델타 8 photoresist 도구는 디지털 micromirror 장치 (DMD) 및 매우 높은 해상도를 필요로 하는 기타 장치에 적합합니다. 에셋은 디스플레이, 미세 유체 센서 및 기타 MEMS와 같은 장치에 사용할 수 있습니다. PVA Delta 8 photoresist 모델은 미세 전자 공정에 필수적인 도구입니다. 고감도 (High Sensitivity) 와 해상도를 통해 매우 작은 장치와 구조를 정확하고 내구성이 뛰어난 이미지로 이미징할 수 있습니다. 이 장비는 다양한 공정 (process) 과 재료 (material) 에 사용될 수 있으므로 가장 정확한 요구 사항이 충족됩니다.