판매용 중고 OPTORUN OTFG-1300 #9278215

OPTORUN OTFG-1300은 고급 사진 해설법 응용 분야에 사용되는 고정밀도, 비용 효율적인 사진주의 장비입니다. OTFG-1300은 독점적 인 광학 필터 시스템을 갖추고 있으며, 기존의 석판화 시스템보다 뛰어난 포토리스 (photoresist) 성능과 높은 해상도를 제공합니다. 이 장치는 정밀 이미징 (precision Imaging), 노출 제어 (Exposure Control) 및 균일 한 포토리스 (Photoresist) 개발을 제공하여 사용자가 비용 효율적인 방식으로 최고의 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. OPTORUN OTFG-1300은 강력한 옵티컬 필터 머신 (optical filter machine) 으로 제작되었습니다. 이 도구는 자외선 노출 (UV exposure) 으로부터 비임계 파장 밴드를 정확하고 정확하게 필터링 할 수 있으며, 그 결과 포토 esist 재료에서 해상도가 향상되고 표면 피쳐의 이미지가 향상됩니다. 이 필터 에셋은 환경 영향 (environmental impact) 을 줄여 생산량 향상, 품질 향상 등의 효과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 모델은 또한 고급 노출 제어 및 균일 한 포토 esist 개발을 특징으로합니다. 노출 제어를 통해 사용자는 서로 다른 애플리케이션의 UV 노출 수준을 정확하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 각 프로세스에 대해 권장되는 UV 노출 시간이 자동으로 계산되어 각 프로세스에 대한 최적의 노출이 보장됩니다. OTFG-1300 (OTFG-1300) 은 또한 균일 한 포토레시스트 (photoresist) 개발 기능을 제공하여 기판 변형에 관계없이 일관된 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 이 장비에는 듀얼 스캔 이미징 (Dual Scan Imaging), 자동 레벨링 (Auto-Leveling), 고속 노출 (High-Speed Exposure) 과 같은 고급 기능이 기본으로 제공되므로 운영 시간을 줄이고 운영 비용을 절감할 수 있습니다. OPTORUN OTFG-1300은 또한 고급 프로세스 제어 기능을 제공하여 정확하고 반복 가능한 사진 분석 프로세스를 제공합니다. 전반적으로 OTFG-1300은 고급 사진 촬영 응용 프로그램을 위해 설계된 고정밀, 비용 효율적인 포토리스 시스템입니다. 독점 광학 필터 장치 (Optical Filter Unit) 와 고급 노출 제어 (Exposure Control) 및 포토리스 (Photoresist) 개발 기능을 갖춘 이 시스템은 기존의 석판화 시스템보다 뛰어난 화질 및 높은 해상도를 제공합니다. 고급 기능을 통해 사용자는 생산 시간을 줄이고 생산 비용을 절감할 수 있으므로 OPTORUN OTFG-1300 은 대용량 사진 (photolithography) 프로세스를 위한 탁월한 선택입니다.