판매용 중고 OPTORUN OTFC-1550 #9382938

OPTORUN OTFC-1550 Photoresist Equipment는 매우 정확한 저항 전파 및 패턴을 제공하도록 설계된 반자동 사진 분석 플랫폼입니다. 이 시스템에는 기판의 포토 마스크 (photomask) 의 정확한 위치와 노출 매개변수에 대한 매우 정확한 제어를 위해 5 축 모션 플랫폼이 장착되어 있습니다. 이 장치는 양수 (Positive) 및 네거티브 (Negative) 저항 시스템을 모두 제어하여 광범위한 어플리케이션에서 유연성을 제공합니다. 이 기계는 또한 진공 척 (vacuum chuck) 과 기판 난방 기능을 갖추고 있어 공정 전반에 걸쳐 조임 (tightlycontrolled) 환경이 유지되도록 보장합니다. OPTORUN OTFC 1550 (OPTORUN OTFC 1550) 에는 노출 과정에서 저항의 두께를 측정 할 수있는 통합 저항 컨트롤러도 있습니다. 이렇게 하면 노출 매개변수를 정확하게 제어할 수 있고, 패턴화가 매우 정확해질 수 있습니다. 이 도구는 또한 단파장 리소그래피 라이트를 공급할 수있는 자외선 광원을 특징으로합니다. 이 자산은 저렴한 운영 및 신속한 처리 시간을 제공하기 위해 설계되었습니다. 선택적 활성 열 단계 (Active Thermal Stage) 는 추가 온도 조절을 제공하여 저항 전파의 정확성을 높입니다. 고급 자동화 기능과 강력한 OTFC-1550 광 모델 (optical model of OTFC-1550) 을 통해 다양한 photolithography 애플리케이션을 위한 최적의 선택이 가능합니다. 이 장비에는 또한 이미지 왜곡을 줄이고 밝고 균일 한 조명 필드를 제공하는 플랫 필드 이미징 시스템 (flat-field imaging system) 이 장착되어 있습니다. 전반적으로 OTFC 1550 Photoresist Unit은 사진 해설을위한 고급적이고 신뢰할 수있는 플랫폼입니다. 첨단 자동화 (Automation) 및 이미징 (Imaging) 기능을 모두 갖추고 있어 고정밀 생산에 적합합니다. 이 기계는 양수 (positive) 와 음수 (negative) 저항을 모두 처리 할 수 있으며 노출 매개변수에 대한 매우 정확한 제어를 제공합니다. 또한, 이 도구는 모든 용도로 정확한 패턴화 결과를 보장하는 통합 저항제어 (Resist Control) 자산을 제공합니다. 낮은 비용과 빠른 처리 시간으로 OPTORUN OTFC-1550 (OPTORUN OTFC-1550) 은 사진 해설과 저항 전파가 필요한 프로젝트에 이상적인 선택입니다.