판매용 중고 OPTORUN OTFC-1300 #9190582

OPTORUN OTFC-1300 포토 esist 장비는 사용자에게 필름과 웨이퍼를 안정적이고 효율적인 처리 수단을 제공합니다. 이 photoresist 시스템을 사용하여 기판 재료는 CAD (computer-aided design) 장치에 의해 결정되는 특정 패턴에 노출 될 수 있습니다. 이 기계는 마이크로 일렉트로닉 리소그래피 (microelectronic lithography) 의 정확성과 정확성을위한 이상적인 도구가 될 것을 약속합니다. OPTORUN 1300은 기판 재료에 원하는 패턴을 만들기 위해 photolithography를 특히 사용합니다. 광전 사진 촬영 (Photolithography) 은 어떤 식 으로든 재료 특성을 변경하는 빛에 노출되는 물질을 포함합니다. OTFC 1300 photoresist projection tool은 마스크 스테이지와 조명 에셋이있는 진공 챔버 (vacuum chamber) 를 사용하여이 프로세스를 최적화합니다. 마스크 단계는 CAD 설계 포토 마스크 (photomask) 가 배치 된 곳이며, 조명 모델은 출력 렌즈 장비가있는 광원으로 구성됩니다. 광출력 렌즈 (light output lens) 시스템은 광원에서 나오는 빛의 빔을 변경하고, 포토 마스크 (photomask) 의 패턴은 빛이 기판 재료에 어떤 영향을 미치는지 영향을 미칩니다. OPTORUN OTFC 1300에는 여러 가지 고급 기능이 있습니다. 진공 장치 (Vacuum Unit) 가 장착되어 있다. 진공 장치 (Vacuum Unit) 는 환경의 변화를 빠르게 조정할 수 있으며, 압력의 급격한 변화로 인한 잠재적 손상 효과로부터 보호한다. 기계는 또한 냉각 도구를 사용하여 광원 과열 방지 (overheating from the light source) 와 일관되고 정확한 성능을 보장합니다. 1300은 고농도 이득 기능을 자랑하며, 최소 손실로 광학 빔 밀도가 증가합니다. 마지막으로, 이 photoresist 자산은 자동 정렬 기술을 제공하여 각 레이어가 항상 제대로 정렬되도록 합니다. 전반적으로 OTFC-1300 포토레스 (photoresist) 모델은 기판 재료에 복잡하고 정확한 패턴을 만드는 강력한 도구입니다. 이는 정확성, 효율성, 신뢰성에 최적화되어 있으며, 마이크로일렉트로닉 리소그래피 (microelectronic lithography) 업계에서 다양한 작업을 수행하고자 하는 사람들에게 적합합니다.