판매용 중고 OPTORUN OTFC-1300 #293598129

OPTORUN OTFC-1300은 웨이퍼 레벨 또는 기판 레벨 제조 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 포토리스 트 장비입니다. 시스템은 프로세싱 챔버, 노출 광원, 제어 및 모니터링 하드웨어로 구성됩니다. 가공 챔버는 완전히 밀폐되어 균일 한 기후를 가능하게합니다. 20 ° C ~ 25 ° C 사이의 온도와 20% ~ 50% 의 습도를 유지할 수 있습니다. 기계는 또한 압력에 대응하는 능력을 가지고 있으므로 저항의 높은 균일성을 달성합니다. 노출 광원은 저항 처리를 위해 특정 파장에서 UV 방사선을 제공합니다. 최대 정밀도를 위해 쿼드 유닛으로 구성됩니다. 또한, 조정 가능한 노출 크기 및 위치 정확도 (positional accurity) 와 같은 특수 기능은 한 기판에서 다른 기판으로의 뛰어난 정밀도 및 결과 균일성을 제공합니다. 제어 및 모니터링 전자 장치는 PC 인터페이스를 사용하여 프로그래밍됩니다. 여기에는 노출 매개변수, 온도, 습도, 압력 및 기판 전송에 대한 설정이 포함됩니다. 모든 매개변수는 실시간으로 모니터링하고 필요에 따라 조정할 수 있습니다. 데이터는 검토 및 분석을 위해 그래프로 그릴 수도 있습니다. OPTORUN 1300은 모듈식 구조로 설계되었으며, 기존 공장 자동화에 쉽게 통합됩니다. 또한 최첨단 디자인과 고성능 (HPP) 기능을 통해 다운타임 최소화와 뛰어난 결과의 균일성을 통해 생산성 향상을 보장합니다. 광전자기계 (photoresist machine) 는 반도체 소자 제조에서 프로세스 변형을 줄이고 품질을 향상시키는 것으로 입증되었다. 또한 기존의 스핀 코팅에서 화학 증기 증착 (CVD), 금속 화, 건식 에칭과 같은 고급 기술까지 다양한 산업 표준 프로세스와 호환됩니다. 전반적으로 OTFC 1300은 정확하고, 균일하며, 반복 가능한 저항 노출이 필요한 모든 반도체 생산에 적합한 선택입니다. 이 제품은 주기 (cycle time) 를 줄이고 제품 수율을 늘려 생산성을 높이고, 생산 비용을 절감할 수 있습니다.