판매용 중고 OKK OKK-604M #9097634

OKK OKK-604M은 광범위한 응용 분야를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템에는 고해상도, 고해상도, 정밀도 등이 결합되어 있습니다. 실제로, 눈에 보이는 레이저 소스와 근적외선 레이저 소스를 모두 사용하여 포토레지스트 (photoresist) 물질을 빠르고 정확하게 패턴화하는 고도로 자동화 된 노출 장치입니다. OKK-604M은 프로세스 전반에 걸쳐 다양한 노출 패턴과 강도를 허용합니다. 견고한 빔 전달 장치 (Strust Beam Delivery Unit) 는 분할 된 현미경 목표와 다양한 수준에서 매우 정확한 노출 제어를 허용하는 조정 가능한 셔터로 구성됩니다. 이 기계는 또한 특정 응용 프로그램에 맞게 레이저 매개변수 (예: 파장, 스팟 크기, 펄스 지속 시간) 를 빠르고 쉽게 전환할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 고급 온도 조절 메커니즘으로 인해 과열 방지 (overheating) 됩니다. OKK OKK-604M (OKK OKK-604M) 에는 웨이퍼 터너 (wafer turner) 가 내장되어 있어 평면 패턴뿐만 아니라 릴리프 패턴, 곡선 패턴 및 스텝 패턴도 처리 할 수 있습니다. 이는 자산의 대규모 기계 설계 및 견고한 구조로 안정된 이미징 (stable imaging) 을 통해 가능합니다. 또한 고유한 소프트웨어 응용 프로그램을 통해 접촉 크기 (Contact Size) 에서 더 큰 투사 (Projection) 까지 다중 레벨 노출과 낮은 듀티 사이클 펄스 (Duty Cycle Pulse) 형성 기능을 사용할 수 있습니다. OKK-604M은 고급 이미징 기능, 높은 처리량, 낮은 조리개 손실로 뛰어난 속도와 정확도를 제공합니다. 이 모델은 또한 평평한 패턴에서 릴리프 패턴 (relief pattern) 에 이르기까지 다양한 패턴화 기술을 통해 뛰어난 유연성과 반복성을 제공합니다. 간단히 말해서, OKK OKK-604M은 고해상도 패턴화, 빠른 처리량, 정밀도 정확도의 조합을 제공하는 효율적이고 신뢰할 수있는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 견고한 빔 전달 시스템 (beam delivery system), 온도 조절 장치 (temperated control unit) 및 자동 웨이퍼 터너 (automated wafer turner) 를 통해 광범위한 포토레시스트 어플리케이션에 완벽한 선택을 할 수 있습니다.