판매용 중고 NEXX SYSTEMS Stratus 300 #9289374

NEXX SYSTEMS Stratus 300은 반도체 제작 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 고해상도 패턴 (patterning) 을 와퍼에 에치할 수 있도록 특별히 설계되었으며, 최대 1 ° m/라인 너비의 고해상도 패턴 기능이 있습니다. Stratus 300은 365nm의 파장을 가진 최대 3J/cm2의 노출 에너지를 생성 할 수있는 고급 멀티 빔 UV 소스를 갖춘 최첨단 포토 esist 기술을 제공합니다. 또한 명암비가 높고 반사 (reflection) 가 낮아 식각 정확도가 향상되는 최적화된 파장 최적화 시스템이 포함되어 있습니다. NEXX SYSTEMS Stratus 300은 중요한 기능을 측정하기 위해 통합 도량형 기계를 갖춘 완전 자동 정렬 장치 (fully automated alignment unit) 를 갖추고 있으며 최대 8 인치 직경의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 도구는 웨이퍼 교환과 빠른 로드/언로드에 동적 교환 메커니즘을 사용합니다. Stratus 300은 고해상도 에칭 기능 외에도 모든 포토 esist 에치 레시피의 추적, 제어 및 보고를 위해 고급 컴퓨터 소프트웨어를 사용하여 데이터 처리 및 제어 시스템을 제공합니다. 이를 통해 품질 관리 (Quality Control) 및 상세한 오류 추적 (Error Tracking) 에 대한 결과를 모니터링하고 기록할 수 있는 기능을 통해 보다 빠르고 정확한 에칭 작업을 수행할 수 있습니다. NEXX SYSTEMS Stratus 300에는 최대 레티클 크기가 75mm 인 독특한 자동 초점 (auto-focus) 기능이 포함되어 있으며, 이를 통해 나노 미터 수준까지 높은 정확도로 에치 할 수 있습니다. 또한 자동 레벨링 에셋은 마스크 기울기 (mask tilt), 포커스 (focus), 저항 두께 (resist thickness) 및 노출 (exposure) 과 같은 프로세스 매개변수를 제어하여 웨이퍼 전체에서 에치가 균일하도록 합니다. 전체적으로 Stratus 300은 풍부한 기능과 기능을 갖춘 고급적이고 신뢰할 수있는 포토리스 (photoresist) 모델입니다. NEXX SYSTEMS Stratus 300은 에칭 프로세스를 정확하게 제어하는 고해상도 에칭 정확도와 능력을 갖춘 반도체 제작에 이상적인 솔루션입니다.