판매용 중고 NEONTECH NSD-68 #9364625

NEONTECH NSD-68
ID: 9364625
웨이퍼 크기: 2"-6"
Spin dryer, 2"-6".
NEONTECH NSD-68은 NEONTECH의 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 네온텍 (NEONTECH) 이 개발한 독자적이고 첨단 포토레시스트 (photoresist) 기술을 사용하여 다양한 응용 프로그램에서 최적의 성능을 보장합니다. NSD-68 은 일관되고 안정적인 성능을 제공하며 다양한 시스템을 수용합니다. Photoresist 시스템은 다양한 산업 및 자동화 프로세스에 사용됩니다. 이 시스템은 실리콘, 세라믹 또는 유리 웨이퍼와 같은 기판에서 복잡한 미세 구조를 개발할 수 있습니다. 이러한 미세 구조는 단일 레이어 (single layer) 또는 다중 레이어 (multiple layers) 조합으로 구성되어 장치 또는 회로를 생성할 수 있습니다. 이러 한 목적 으로, 광자기사 는 광마스크 (photomask) 를 통해 투영 되는 전자기 복사 (electromagnetic radiation) 패턴 에 노출 된다. 방사선 은 광저항 물질 의 성질 을 변화 시키며, 그 결과 기판 에 정확 하고 정확 하게 형성 된 "패턴 '이 형성 된다. NEONTECH NSD-68 포토 esist 유닛은 사용자 친화적 인 소프트웨어 환경과 고정밀 포토 esist 노출 기계로 구성됩니다. 소프트웨어 환경 (Software Environment) 을 사용하면 photoresist 재료에 투영해야 하는 방사선 패턴을 정확하게 정의 할 수 있습니다. 노출 도구는 광범위한 노출 에너지 (100 J/sq cm에서 2mJ/sq cm) 로 포토 esist를 정확하게 노출 할 수 있습니다. 이것 은 방사선 에 노출 된 후 "포토레지스트 '가 원래 의 성질 을 유지 하여, 기판 에 정확 한" 패턴' 을 형성 할 것 을 보장 한다. NSD-68의 또 다른 중요한 기능은 고급 열 이미징 기능입니다. 이 기능을 사용하면 포토 esist 성장과 치료에 대한 정확한 모니터링 및 제어가 가능합니다. 정밀도가 높은 장치와 회로의 생산에 필수적인 더 정확한 패턴 (pattern formation) 을 초래한다. 마지막으로, NEONTECH NSD-68 포토 esist 자산은 미세 튜닝 노출 매개 변수에 대한 다양한 옵션을 제공합니다. 이를 통해 포토레스 (photoresist) 모델을 다양한 응용 프로그램의 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 다양한 업종의 광범위한 응용 프로그램 (application in the vestriage industry) 에서 알 수 있듯이, 높은 신뢰성과 정확성을 제공합니다. 요약하자면, NSD-68 포토레지스트 (photoresist) 시스템은 신뢰할 수 있는 성능, 뛰어난 열 이미징 기능, 미세 튜닝 매개변수를 제공하여 다양한 산업 및 자동화 어플리케이션을 위한 완벽한 선택입니다.
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