판매용 중고 MTI FLEXIFAB #97296
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ID: 97296
Developer system, configuration:
Send-Rec/ Develop/ Bake/ Bake
275C stepper driven hot plates
Puddle or fan spray develop dispense
Side dispense for DI water
Additional dispense such as backside EBR, backside wash, top side EBR or bowl wash are available.
MTI FLEXIFAB는 복잡한 반도체 장치의 제작을 위해 MTI (Material and Testing Instruments) 에서 개발 한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 높은 수준의 유연성을 제공하여 블라인드 비아 (blind vias), 스텝 커버리지 (step coverage) 및 서피스 프로파일 (surface profile) 을 포함한 광범위한 구조를 만들 수 있습니다. 이 장치는 두 가지 주요 구성 요소 (photoresist deposition machine 및 pattern generator) 로 구성됩니다. 광저항 증착 도구 (photoresist deposition tool) 는 기판을 가로 질러 광저항 층을 균일하게 배치하도록 설계되었습니다. 대용량 자동 저항기 (automated resist spinner) 를 활용하여 저항제 적용 프로세스를 정확하게 제어합니다. 스피너 (spinner) 는 저항을 다른 속도로 증착 할 수 있으며, 반복성이 높아 서로 다른 기판에서 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 두 번째 컴포넌트는 패턴 생성기입니다. 이 장치 는 "에칭 '과정 을 위한 안내서 역할 을 하는 증착식" 포토레지스트' 에 "패턴 '을 인쇄 하는 데 사용 된다. "패턴 '을 에셋 으로" 프로그램' 하여 만들어진 구조 의 크기 와 모양 을 정확 하게 제어 할 수 있다. 이 "카메라 '에는 또한" 패턴' 의 결함 을 식별 하는 데 사용 할 수 있는 "카메라 '가 들어 있어 필요 한 대로 조정 할 수 있게 해 준다. 이 두 컴포넌트의 조합은 전통적인 포토 리토 그래피 (photolithography) 프로세스에 비해 많은 이점을 제공합니다. 이러한 장점 중 하나는 전통적인 리소그래피 기술로는 불가능한 복잡한 3 차원 구조를 만드는 모델의 능력입니다. 또한, 저항 응용프로그램 (Resist Application) 과 패턴 처리 (Patterning Process) 를 매우 정확하게 제어하면 라인 해상도가 향상되고 프로세스 반복성이 향상됩니다. 전반적으로 FLEXIFAB은 복잡한 반도체 장치를 제조하기위한 매우 효과적인 장비입니다. 정확한 제어 및 유연한 기능을 통해 라인 해상도 (line resolution), 수율 (yield), 반복성 (repeatability) 이 향상되어 매우 복잡한 디자인을 만들 수 있습니다. 따라서, 현대 반도체 생산 프로세스에 이상적인 선택입니다.
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