판매용 중고 MSETEK VRD 8000 #9280585

MSETEK VRD 8000 사진 저항 장비는 기판에서 photoresist 기능을 생산하기위한 강력한 도구입니다. 포토레스 레이어를 웨이퍼 (wafer) 나 기판에 증착시키기 위해 특별히 설계된 시스템으로 반도체 산업의 리소그래피 (lithography) 및 기타 응용 분야에 사용됩니다. VRD 8000 (VRD 8000) 장치는 해상도와 품질이 매우 높은 다양한 포토레시스트 (photoresist) 구조를 생산할 수있는 다용도 플랫폼입니다. 이 기계는 두께 몇 나노 미터 (nanometer) 의 순서로 매우 얇은 층을 생성하는 데 사용될 수 있습니다. 이렇게 하면 작은 크기의 기능이 필요한 응용 프로그램에 이 도구를 유용하게 사용할 수 있습니다. 이 자산은 또한 내부 레이저 (in-situ laser) 노출로 재료를 증착 할 수 있으므로 리소그래피 작동을위한 강력한 도구입니다. MSETEK VRD 8000 모델은 다양한 포토 esist 레이어를 생성 할 수 있습니다. 또한 여러 가지 유형의 레이어 (예: 양수 또는 음수 photoresist 레이어, 기판 특정 패턴) 를 생성 할 수 있습니다. 장비는 응용 프로그램에 따라 다양한 포토레지스트 레이어 (photoresist layer) 와 패턴 (pattern) 을 생성하도록 사용자 정의 할 수도 있습니다. VRD 8000은 기판 및 운영자를 보호하기 위해 몇 가지 안전 기능으로 설계되었습니다. 이 시스템은 후드 인클로저 (hooded enclosure) 를 사용하여 포토 esist 증착 과정에서 생성 된 증기를 포함합니다. 또한, 이 장치에는 시스템의 안전한 작동 온도를 유지하기 위해 인클로저 온도 모니터 (enclosure temperature monitor) 가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 처리 중인 기판에 손상이 발생하지 않습니다. MSETEK VRD 8000 도구는 또한 포토 esist 증착의 정확성을 돕는 다양한 센서와 컨트롤러를 사용합니다. 자산은 레이저 영상 프로세스 (laser imaging process) 를 사용하여 기판에서 포토리스 스트 (photoresist) 피쳐의 정확한 위치를 감지하여 생성 된 패턴에 대한 높은 수준의 정확성을 제공합니다. 그 에 더하여, 그 모형 을 "프로그램 '하여 감광 장치 의 적절 한" 에칭' 과 접촉 시간 을 보장 하기 위하여 "콘택트 '시간 과" 레이저' 동력 을 조절 할 수 있다. 전반적으로, VRD 8000 photoresist 장비는 기판에서 photoresist 기능을 생산하기위한 매우 다재다능하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 고급 안전 기능, 정확한 레이저 이미징 기능, 증착 공정 (deposition process) 사용자 정의 기능을 갖춘 이 시스템은 반도체 업계의 다양한 리소그래피 중심 어플리케이션에 적합합니다.