판매용 중고 MITSUI SEIKI SP-40D #9230484

MITSUI SEIKI SP-40D는 고해상도의 반도체 장치를 패턴화하도록 설계된 포토리스 장치입니다. 이 시스템에는 고급 마이크로프로세서 제어 광학 장치 (Optical Unit), 고해상도 광학 장치 (High Resolution Optics) 및 포토리스 노출 과정을 제어하기위한 고급 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 실리콘 웨이퍼 (silicon wafers) 와 같은 반도체 기판을 패턴화하는 데 이상적인 기계입니다. 이 기계는 고급 광학 도구, 조명 소스 (Lightumination Source) 및 고밀도 스캐닝 메커니즘으로 구성되어 Wafer Registration에 정확한 마스크를 제공합니다. 조명원은 전자 총 또는 고출력 LED 원이 될 수 있습니다. LED (LED) 소스는 전자 총보다 광범위한 노출 조건에서 더 높은 해상도를 제공 할 수 있습니다. 광학 자산은 일련의 목표와 동력 단계 (motorized stage) 로 구성되어 정확한 노출 정렬을 허용합니다. 이 모델에는 직관적인 사용자 인터페이스 (user-interface) 가 장착되어 있어 매개변수 설정과 프로세스 제어가 용이합니다. 프로세스 모니터링, 데이터 로깅, 프로세스 시뮬레이션, 프로세스 최적화를 위한 데이터 분석 등을 제공합니다. 이 장비는 또한 photoresist 노출 알고리즘을 제어하기위한 다양한 유형의 소프트웨어를 지원합니다. SP-40D 에는 자동 초점 설정이 가능한 자동 초점 시스템 (auto-focus system) 이 내장되어 있어 photoresist 노출 과정이 더욱 간단합니다. 또한, 이 장치는 스핀 코팅, 에칭, 접촉 인쇄, 웨이퍼 절삭, 패턴 확인 등 다양한 프로세스를 제공합니다. 또한 조명 강도, 노출 시간, 스캔 속도, 노출 후 베이크 시간 등 다양한 프로세스 매개 변수에 대한 옵션을 제공합니다. 전반적으로 MITSUI SEIKI SP-40D는 반도체 장치 프로세스에 대해 정확하고 높은 해상도의 포토 마스크 (photomask) 를 제공 할 수있는 강력하고 신뢰할 수있는 포토 esist 기계입니다. 사용자 친화적 (user-friendly) 으로 설계되었으며, 각 개별 애플리케이션의 요구에 따라 쉽게 구성할 수 있는 다양한 기능과 기능을 제공합니다. 반도체 업계의 다양한 패턴화 (patterning) 애플리케이션에 사용될 수 있다.