판매용 중고 MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se #9280579

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se는 다양한 옵토 전자 어플리케이션에 대해 탁월한 프로세스 균일성과 사용자 유연성을 제공하는 고성능 포토레지스트 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 고급 생산 프로세스에 사용하도록 설계되었으며, PMMA, SU-8 및 i-line photoresist를 포함한 다양한 photoresist 레이어의 정밀 노출이 가능하도록 최적화되었습니다. MP-18M08J-Se는 2 구역 운송 단계를 특징으로하며, 결과적으로 전송 시간을 최소화하는 photoresist 레이어의 동시 코팅 및 노출을 제공합니다. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se는 RIE (Reactive Ion Etching) 구성을 사용하여 포토 esist의 정확한 노출을 촉진합니다. MP-18M08J-Se의 진공 처리 챔버 (vacuum processing chamber) 는 적절한 대기 챔버 압력을 보장하도록 설계된 플랜지로 밀봉됩니다. 챔버 입구 (chamber inlet) 및 콘센트 (outlet) 포트는 노출 과정에서 지속적인 N2 가스 흐름을 보장하여 챔버에서 바람직하지 않은 잔기를 제거하고 포토 esist 형성을 위해 통제 된 환경을 유지하는 데 도움이됩니다. 이 장치의 작은 설치 공간 (small footprint) 은 실험실 작업 공간을 효율적으로 사용할 수 있게 해 주며, 섬세한 샘플을 위한 사용자의 편안함과 프로세스 안전 (process safety) 을 극대화합니다. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se는 5-10 × 10-8 Torr의 기본 압력에 도달 할 수있는 유능한 진공 기계를 갖춘 신뢰할 수있는 진공 소스를 제공합니다. MP-18M08J-Se의 진공 도구 (vacuum tool) 는 또한 포토 esist 레이어에 오염과 결함을 방지함으로써 제품의 품질을 보장합니다. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se의 분석 기능은 4 "듀얼 월 챔버로 향상되었습니다. 이 기능은 외부 광 (external light) 을 효과적으로 차단하고 전체 노출 프로세스에 대한 정확한 제어를 허용합니다. 이 로 말미암아 "포토레지스트 '의 감수성 이 다양 한 환경 조건 하 에서도, 훌륭 한 균일성 을 지닌 신뢰 할 만한 층 을 만들 수 있다. MP-18M08J-Se의 전반적인 다용성 및 성능은 막 스위치 생산, 마이크로 스케일 전자 제품 및 LED 제조와 같은 광전자 응용 분야에 이상적인 선택입니다. 자산의 소형 디자인 (compact design) 은 또한 연구 실험실, fab 실험실 또는 소규모 생산 시설에 사용하기 위해 매력적인 선택입니다. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se (MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se) 는 다양한 생산 표준의 요구를 예상하여 모든 포토 esist 기술에 완벽한 선택을 할 수 있도록 설계되었습니다.