판매용 중고 M-SETEK VL-6000 #9148407

M-SETEK VL-6000 Photoresist Equipment는 최고의 마스크 제조 장비 제조업체 인 M-SETEK에서 제조 한 장치입니다. 이 "시스템 '은" 반도체' 장치 의 제작 에 사용 되는데, 이 장치 는 응용광원 에 노출 되려면 여러 가지 물질 의 정밀 한 무늬 를 필요 로 한다. VL-6000은 매우 정밀한 패턴 이미징을 달성하기 위해 고급 photolithography 기능을 제공합니다. M-SETEK VL-6000의 코어 장치는 고정밀, 저왜곡 선형 어셈블리를 포함하는 정밀 XY 단계입니다. 이 장치를 사용하면 기판과 광학 빔을 매우 정밀하게 정렬할 수 있으며, 따라서 초음파 (ultra accurate) 이미지와 패턴을 생성할 수 있습니다. 이 장치는 또한 열재 된 챔버 (heated chamber) 를 특징으로하며, 광학 영상 과정에서 광학자가 균일하게 녹은 상태로 유지하여 매우 잘 정의 된 패턴을 제공합니다. 이 장치에는 여러 개의 액세서리가 장착되어 있으며, 가장 좋은 것은 동력, 동기화 된 셔터입니다. 이렇게 하면 사용자가 각 샷의 노출 시간 (imposure time) 을 정확하게 제어할 수 있으므로 대상 (target) 패턴만 광원에 노출됩니다. 이 기계는 또한 고정밀 레이저 간섭계 (high-precision laser interferometer) 와 함께 제공되어 사용자가 기판 단계의 위치를 레이저-보정하여 최고의 정확도를 얻을 수 있습니다. VL-6000에는 센서가 장착 된 저항 주택도 포함되어 있습니다. 여기에는 레지스트 온도 (resist's temperature) 와 점도 (viscosity) 의 변화를 감지하는 센서가 포함되어 있어 프로세스 중에 필요한 경우 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 고해상도 이미징 카메라와 함께 제공되며, 사용자는 각 샷의 결과를 검사하고 확인할 수 있습니다. M-SETEK VL-6000에는 모든 기능을 제어하기 위해 강력한 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 단일 키 입력 (keystroke) 이 전체 이미징 프로세스를 실행하면서 일련의 샷을 쉽게 설정하고 실행할 수 있습니다. 요약하면, M-SETEK의 VL-6000 Photoresist Asset은 고정밀 반도체 장치 제작을 위해 설계된 고급 다기능 사진 분석 모델입니다. 이 장비는 정확한 XY 단계, 가열식 챔버, 동기화 된 모터 셔터, 레이저 간섭계, 고급 저항 모니터링 센서, 고해상도 이미징 카메라 및 직관적 인 소프트웨어 플랫폼을 갖추고 있습니다.