판매용 중고 M&R AGS-1008SDFT #9238807

M&R AGS-1008SDFT는 사진 해설을 단순화 할 목적으로 만들어진 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이것은 질감 박막, 광학 재료, 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 부품의 제조 및 개발에 이상적입니다. AGS-1008SDFT는 photomasker, exposure system 및 developer를 포함한 일련의 구성 요소로 구성됩니다. Photomasker (Photomasker) 는 사용하기 쉽도록 설계되었으며 사용자가 패턴 형상을 정확하게 정의할 수 있도록 합니다. 노출 장치 (Exposure Unit) 는 높은 강도의 빛을 사용하여 저항 물질의 균일하고 일관된 노출을 보장합니다. 마지막으로, 개발자는 사용자가 적시에 효율적인 방법으로 저항 물질을 에치 (etch) 하고 모양을 만들 수 있습니다. 이 기계는 다른 포토리스 (photoresist) 시스템보다 뛰어난 성능과 향상된 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. 이 도구의 최대 노출 해상도는 0.5 미크론이며, 0.5 미크론만큼 얇은 레이어를 개발할 수 있습니다. 또한, 에셋은 가변 종횡비로 패턴을 만들 수 있으며, 세부적이고 복잡한 설계 기능을 제공합니다. M&R AGS-1008SDFT는 자외선 및 가시 광원을 포함한 다양한 광원을 지원할 수 있습니다. AGS-1008SDFT는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 통해 사용자 친화적으로 설계되었으며 손쉽게 휴대할 수 있습니다. 최적의 결과를 얻기 위해 모델은 고정밀 (high-precision) 컴포넌트를 자랑하며 정확한 노출 시간을 보정할 수 있습니다. 이 장비는 또한 데이터 관리를위한 기본 기능을 제공하여 처리 오류를 줄입니다. 전반적으로 M&R AGS-1008SDFT는 현대 제작에서 사진 해설에 이상적인 선택입니다. 탁월한 성능, 기능, 휴대성을 통해 박막, 광학 재료, 마이크로일렉트로닉 부품의 개발을 위한 최첨단 솔루션을 제공합니다.