판매용 중고 LYNX NTM RCL-15-1 #9149883

LYNX NTM RCL-15-1 포토 esist 장비는 집적 회로 및 기타 전자 부품을 만드는 과정에서 사용되는 고급 도구입니다. 이 시스템은 뛰어난 광자 패턴화를 제공하여 직접 및 간접 응용 프로그램을 모두 허용합니다. 이 장치는 시야와 해상도를 극대화하고 동작 제어 (motion control) 를 동기화하는 고급 옵티컬 설계를 갖추고 있습니다. 이 조합을 사용하면 가장 효율적인 프로세스 (process) 와 가장 높은 처리량으로 가능한 패턴 정확도를 높일 수 있습니다. 또한, 이 장치는 업계 등급 컨트롤러 및 고급 소프트웨어와 함께 작동하여 3D 구조의 고정밀 이미징을 생성합니다. NTM RCL-15-1 포토레시스트 머신 (photoresist machine) 은 기기에서 미세한 부품에 이르기까지 광범위한 마이크로 일렉트로닉 응용 프로그램에서 사용될 수있는 표면을 생성합니다. 사용자는 고밀도 이미징에 의존하여 칩에서 가장 복잡한 디자인을 만들 수 있습니다. photoresist 도구는 공간과 시간을 사용하여 컴포넌트를 청소합니다. 이를 위해 에셋은 모션 제어 (motion control) 와 고급 소프트웨어 (advanced software) 의 조합을 사용합니다. 따라서, 두께 가 10 분 의 1 "나노미터 '인 감광 물질 의 균일 한 층 을 만들어 낼 수 있다. 이 모델에는 긴 서비스 및 낮은 유지 관리 속도를 제공하는 고전압 (High-Voltage) 소스가 있습니다. 광원은 고해상도 이미징을 위해 2.5 "s '의 매우 짧은 노출 시간을 생성 할 수 있습니다. 장비는 또한 전체 샘플에 대한 감광 물질 두께의 균일성을 보장합니다. 이를 통해 비용을 절감하고 최종 제품의 품질을 향상시킬 수 있습니다. LYNX NTM RCL-15-1 포토 esist 시스템은 다양한 CAD (computer-aided design) 패키지와 상호 작용하도록 프로그래밍되었습니다. 이러한 연결 기능을 통해 사용자는 강력한 소프트웨어 툴을 통해 설계의 레이아웃을 신속하게 조정할 수 있습니다 (영문). NTM RCL-15-1 포토 esist 유닛의 사용자는 자동 피드백 제어를 이용할 수도 있습니다. 이 기능을 통해 사용자는 노출 시간을 추적, 제어하고 신속하게 조정하여 설계 프로세스를 최적화할 수 있습니다 (영문). 이 기계에는 자동 온도 조절 (automatic temperature regulation) 및 비상 종료 프로세스 (emergency shutdown process) 와 같은 통합 안전 기능도 포함되어 있습니다. 이를 통해 LYNX NTM RCL-15-1 포토 esist 도구는 구성 요소에 잠재적 인 손상을 방지합니다. 전반적으로 NTM RCL-15-1 포토레시스트 (photoresist) 자산은 고성능 이미징 및 패턴 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 도구입니다. 뛰어난 광자 패턴 (photon patterning), 통합 안전 (integrated safety) 기능, 고효율 프로세스를 갖춘 이 제품은 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 전자 부품을 만들고 패턴화하는 데 강력하고 안정적인 선택입니다.