판매용 중고 LEYBOLD HERAEUS SYRUS-C 1350 #9228481

LEYBOLD HERAEUS SYRUS-C 1350은 photolithography 영역에서 사용하기위한 photoresist 프로세스 장비입니다. 이 시스템은 반도체 및 웨이퍼 기판에서 생성 된 회로 패턴을 보호하기 위해 포토레스 (photoresist) 특성을 제공하도록 설계되었습니다. 최대 13 인치 싱글 스텝 코팅 웨이퍼와 8 인치 4emes 및 12 인치 6emes 웨이퍼 어레이를 처리 할 수 있습니다. 이 단위는 석판화 또는 에칭 (etching) 프로세스에 사용하기 위해 기판에 감광 광감광성 (photoresist) 층을 생성하는 데 사용됩니다. LEYBOLD HERAEUS SYRUS C1350은 멀티 스테이지 코팅 기술을 사용하여 최적의 프로세스 결과를 위해 웨이퍼를 기판비 제어를 허용합니다. 이 과정에는 기판 표면에 photoresist 레이어를 적용하고, photoresist 레이어를 미리 정해진 온도에 굽고, 추가 photoresist 레이어를 적용하는 것이 포함됩니다. 이 기계는 또한 단일 단계 코팅과 균일 한 적용 범위를 가진 4 분의 1 코팅의 처리를 허용합니다. Photoresist 선은 CAD 도구를 사용하여 기판에 인쇄되며, 에칭할 패턴의 높이는 반자동 레이저 간섭계 (semi-automated laser interferometer) 를 사용하여 결정됩니다. 그런 다음 "레이저 '광선 을" 웨이퍼' 에 집중 하여 원하는 "패턴 '을 노출 시킨다. 노출 후, 웨이퍼는 포토 esist의 노출되지 않은 부분을 제거하기위한 현상기 (developer process) 를 받는다. SYRUS-C 1350은 각 노출, 현지화 된 패턴별 노출, 프로세스 자동화 기능 등을 조절할 수 있는 용량 조절 기능을 포함하여 최첨단 기능을 제공합니다. 또한 0.2 마이크로미터까지 고해상도 이미징을 수행 할 수 있습니다. 에셋은 사용자에게 수동 (manual), 반자동 (semi-automated) 또는 완전 자동화 (fully automated) 프로세스를 사용할 수 있는 옵션을 제공하여 응용 프로그램에 따라 다양한 양의 제어 및 사용자 정의를 허용합니다. 다른 장점으로는 유연한 바늘 디자인 (Flexible Needle Design) 이 있으며, 기판의 균일 한 적용 범위와 정확한 photoresist 패턴이 보장됩니다. 시러스 C1350 (SYRUS C1350) 은 고품질의 안정적인 저항처리를 제공하므로 복잡한 구조물을 정밀하게 제조 할 수 있습니다. 고해상도 전자 회로 및 부품을 제작하는 데 유용한 도구입니다. 이 모델은 다양한 기능과 기능 (function and function) 을 제공하며, 다양한 애플리케이션의 제품을 제조할 수 있습니다.