판매용 중고 LEYBOLD APS 1104 #9092775

LEYBOLD APS 1104 (LEYBOLD APS 1104) 는 특히 사용자에게 리소그래피 프로세스에 대한 완벽하고 정확한 작업 흐름을 제공하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 사용자가 원하는 설정에서 노출 (exposure) 을 정확하게 모델링하고 리소그래피 (lithography) 프로세스를 개발할 수 있는 도구 세트로 구성되어 있습니다. 핵심에서 APS 1104는 4 단계 프로세스를 사용하여 웨이퍼 표면을 준비합니다. 첫째, 웨이퍼는 자외선 (UV) 과 심자외선 (DUV) 을 생성 할 수있는 광원에 노출됩니다. 이 노출은 감광제를 단단하게하고 민감하게합니다. 둘째, 포토 esist는 기본 기질을 노출시키기 위해 개발자 욕조에서 개발됩니다. 셋째, 웨이퍼는 노출 패턴을 정의하기 위해 습식 에칭 과정을 거칩니다. 마지막으로, 웨이퍼는 포스트 프로세싱 에칭이 적용되며, 이 동안 노출 된 패턴은 원하는 3D 프로파일로 변환됩니다. 이 장치는 또한 고급 광학 이미징 머신 (Optical Imaging Machine) 과 같은 여러 가지 인상적인 기능을 자랑합니다. 원거리 비선형성을 10nm까지 감지 할 수 있습니다. 이 도구는 포토리스 (photoresist) 의 오염을 줄이고 동작 에셋 (motion asset) 과 함께 작동하여 광원의 초점을 조정하여 전체 시야를 정확하게 노출시킵니다. LEYBOLD APS 1104는 시간당 최대 1000 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으므로 개발 시간이 패턴당 최대 20 분입니다. 저온 작동은 디지털 온도 컨트롤러 (digital temperature controller) 와 결합되고 열전대 (thermocouple) 는 공정 중에 포토 esist 레이어가 손상되지 않도록 보장합니다. APS 1104의 정확도는 높으며, 이는 고정밀 스테퍼 컨트롤러 (stepper controller) 와 압전 (piezoelectric transducer) 에 의해 부분적으로 활성화됩니다. 이 모델에는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 다양한 디버깅 툴 (debugging tools) 이 있어 photoresist 프로세스를 빠르고 쉽게 모델링 할 수 있습니다. 전반적으로 LEYBOLD APS 1104는 포토 esist 장비를위한 훌륭한 선택입니다. 매우 정확하고 효율적이며, 리소그래피 프로세스 개발에 완벽한 선택이됩니다.