판매용 중고 LAURELL WS-400B-6NPP #293822285

LAURELLL WS-400B-6NPP는 박막 증착, 에칭, 절연 라미네이션 및 포토 esist 코팅과 같은 많은 전기 광학 처리 응용 분야에 적합한 벤치탑 포토 esist 처리 장비입니다. 이 고급 올인원 (All-in-one) 시스템은 사용자에게 탁월한 성능과 엄격한 프로세스 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 기능 온도 제어 플랫폼, 강력한 6kV 전원 및 4 구역 확산 조명기가 특징입니다. 온도 조절 플랫폼에는 최대 80 ° C의 온도에 도달 할 수있는 큰 처리 챔버 (processing chamber) 가 있으며, 섬세한 포토 마스크 및 저항 레이어의 정확한 처리를 위해 1 ° 이내로 정할 수 있습니다. 4 구역 확산 조명기를 설정하여 25 ~ 75 W/cm2의 조명 수준을 달성할 수 있지만, photomask 또는 wafer의 전체 표면에 조명을 제공합니다. 이를 통해 저항층의 보다 균일하고 일관된 석판 노출이 가능합니다. 또한, 조명기는 석판 공정의 미세 조정을 위해 분 단위로 조정 할 수 있습니다. WS-400B-6NPP의 전원 출력은 최대 6kV입니다. 이를 통해 등각 박막의 증착 또는 웨이퍼 (wafer) 또는 포토 마스크 (photomask) 에 잘 정의 된 에칭 패턴의 형성이 가능하며, 여전히 엄격한 프로세스 제어를 유지합니다. 6kV 전원으로 LAURELLL WS-400B-6NPP를 사용하여 미세 유체 채널 (microfluidic channel) 과 같은 구조를 정확하게 생산하기 위해 깊은 참호와 기능을 에치 할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 열 드리프트를 최소화하고 최적의 리소그래피 결과를 보장하기 위해 석판 처리 과정에서 포토 esist의 정확한 온도를 측정하는 독점 레이저 유도 온도 제어 (LITC) 머신 (LITC) 이 장착되어 있습니다. 또한 "와퍼 '나" 마스크' 위 에 저항층 을 균일 하게 분배 할 수 있는 자동화 된 저항성 "코우팅 '도구 도 포함 된다. 이는 정확하고 일관된 결과를 보장하며, 저항의 수동 분배로 인한 변화를 최소화합니다. 전반적으로, WS-400B-6NPP는 다양한 포토리스 시스트 (photoresist) 처리 응용 프로그램에 적합한 고급 다용도 자산입니다. 정확한 온도 조절, 6kV 전원, 4- 존 확산 조명기, 자동 저항 코팅 모델을 통해, 사용자는 엄격한 프로세스 제어를 달성하면서 정확하고 일관된 리소그래피 결과를 얻을 수 있습니다.