판매용 중고 LAURELL EDC-650HZB-23NPPB #293591872

LAURELL EDC-650HZB-23NPPB Photoresist Equipment는 마이크로 일렉트로닉스를 제작하고 처리하기위한 매우 정확하고 안정적인 프로세스입니다. 이 시스템은 다양한 응용을위한 복잡한 회로 경로를 만들기 위해 기판에 정확하게 증착 (deposit) 하고 패턴 저항 (pattern resist) 할 수있다. 이 장치는 고급 물리 및 광학 기술을 사용하여 습식 에칭 및 사진 해설을 포함한 마이크로 일렉트로닉스를 처리합니다. 습식 에칭 공정은 반응성 화학 물질을 사용하여 물질을 제거하고 기판을 형성하는 반면, 광석학 (photolithography) 은 빛을 사용하여 패턴을 정의하고 생성합니다. 광전자기계 (photoresist machine) 에는 광석기 (photolithographic process) 동안 추가적인 제어 및 정확성을 제공하는 기계적, 전기적 단계도 포함되어 있습니다. 이 도구는 뛰어난 해상도를 제공하는 두 부분으로 구성된 액체 침입 이미징 자산을 갖추고 있습니다. LAURELL EDC 650 HZB 23 NPPB는 컴퓨터 제어되어 프로세스를 정확하고 정확하게 프로그래밍 및 모니터링 할 수 있습니다. 또한이 모델에는 고온, 대면적 소프트 큐어 오븐 (soft cure oven) 이 포함되어 있어 노출 후 베이크 시간이 빠르고 오븐 제어가 향상됩니다. 이 장비는 유연성을 위해 설계되었으며, 세라믹 (ceramic) 과 유리 (glass) 를 포함한 다양한 기판과 함께 사용할 수 있습니다. 이 시스템의 고급 물리 및 광학 기술은 구리 금속화, 딥 에치 포토 리토 그래피, 하프 톤 이미징, 상감 된 fiducial formation 등과 같은 다양한 응용 분야에 이상적입니다. EDC-650HZB-23NPPB는 안정적이고 효율적이며 비용 효율적입니다. 이것은 복잡한 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 와 부품을 개발해야 하는 실험실, 대학, 제작 시설에 이상적인 선택입니다. 또한 사용자 친화적 인 소프트웨어를 통해 프로세스를 보다 쉽게 제어, 모니터링할 수 있습니다. 마지막으로, 기계는 유지 보수가 적고 긴 서비스 수명을 특징으로합니다. 그것 은 여러 가지 조건 하 에서 시험 을 받았으며, "마이크로 '전자 공학 제조 및 가공 을 위한 믿을 만한 해결책 임 이 증명 되었다.