판매용 중고 KSM HS04-3000 #9300866

KSM HS04-3000 Photoresist Equipment는 고효율 다기능 시스템으로, 저항 처리를 위해 설계되었습니다. 고급 리소그래피 (lithography) 시스템을 위한 완벽한 솔루션으로, 우수한 성질을 지닌 사진술사 (photoresist) 를 제작하는 데 비용 효율적인 솔루션이 필요합니다. 이 장치는 2 개의 통합 구성 요소 (균일 한 온도를 제어하는 인큐베이터) 와 화학 반응을위한 화학 가공 챔버 (chemical processing chamber) 로 구성됩니다. 이 두 구성 요소는 photoresist가 정확하고 균일하게 처리되도록 합니다. 이 기계에는 제어판, 펌프, 필터 및 기타 액세서리가 장착되어 있어 사용자에게 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 이 도구를 사용하면 5 ~ 40 ° C의 온도를 제어 할 수 있으므로 반응 속도 및 포토 esist 결과를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 인큐베이터는 다양한 포토 esist 화학 물질 및 레시피와 호환되며, 다양한 포토 esist 화학 물질에 대한 저항 과정을 쉽게 적응시킬 수 있습니다. 인큐베이터는 또한 정밀 타이머와 컨트롤러를 사용하여 사진 레시피를 모니터링, 저장, 리콜 할 수 있습니다. 화학 가공 챔버 (chemical processing chamber) 를 사용하면 저항 용해 및 리소그래피 프로세스의 반응 속도를 정확하게 관리하고 모니터링 할 수 있습니다. 또한 다양한 화학 물질과 호환되며, 사용자가 반응의 온도, 압력, 유속 (flow rate) 을 정확하게 제어 할 수있는 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 또한 광전자 (photoresist) 의 균일 한 용해 및 순수 한 광전사 (photoresist) 만 필름에 들어가는 강력한 필터를 포함합니다. 또한 HS04-3000은 사용자 안전과 효율성을 고려하여 설계되었습니다. 안전성 연동장치 (Safety Interlock) 를 통해 작업 영역에 대한 무단 액세스를 방지하고 용매와 화학 증기에 대한 광범위한 보호 기능을 제공합니다. KSM HS04-3000은 뛰어난 성능, 다용성 및 신뢰성을 제공합니다. 고급 석판 시스템에서 저항 처리에 이상적인 선택입니다.