판매용 중고 KDI KD-UV02-1707 #9293285

KDI KD-UV02-1707은 산업 용도로 설계된 포토 esist 장비입니다. 광전자 처리 중 노출, 온도, 습도를 정확하게 제어 할 수있는 진공 기반 시스템입니다. KD-UV02-1707은 다양한 기능을 제공하여 photoresist 처리를 더욱 안정적이고 효율적입니다. KDI KD-UV02-1707에는 포토 esist 처리를위한 진공 챔버가 있습니다. 이 진공실은 온도, 습도, 노출에 맞게 조정 할 수있는 환경 제어 대기를 제공합니다. 이것은 포토 esist를 처리 할 때 뛰어난 제어 및 결과를 보장합니다. 진공 압력은 다양한 응용 분야를 위해 1.3 Pa ~ 500 Pa로 조정할 수 있습니다. KD-UV02-1707에는 노출을위한 UV/가시 광원도 있습니다. 이 광원을 사용하면 노출 시간을 적용에 정확하게 맞게 조정할 수 있습니다. "포토레지스트 '는 원하는 결과 의 정확 한 시간 동안 광원 에 정확 하게 노출 될 수 있다. KDI KD-UV02-1707에는 포토 esist 프로세싱을위한 고성능 이미징 플레이트도 있습니다. 이 이미징 플레이트는 정확한 처리를 위해 1.7äm의 높은 해상도를 갖습니다. 그 에 더하여, 영상 "플레이트 '를 최적화 된" 이온 빔' 으로 코팅 하여 광전자 를 빠르고 효율적 으로 처리 할 수 있게 한다. KD-UV02-1707에는 사진 처리 장치 전체를 모니터링하기 위한 제어 장치도 장착되어 있습니다. 이 제어 도구를 사용하면 연산자가 필요에 따라 프로세스를 추적하고, 조정할 수 있으므로, 언제든지 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. KDI KD-UV02-1707은 또한 정확한 노출 제어를 위해 수동 또는 전동식 XY 단계를 포함하여 다양한 액세서리를 제공합니다. 이를 통해 이미징 플레이트를 최대 정확도와 효율성을 위해 필요한 위치에 정확히 배치할 수 있습니다. 이 자산에는 자동 초점 조정 모델 (autofocus adjustment model) 이 장착되어 있어 최적의 결과를 위해 이미징 플레이트를 빠르고 정확하게 집중할 수 있습니다. 전반적으로 KD-UV02-1707은 산업용으로 탁월한 포토리스 장비입니다. 이 진공 기반 시스템은 노출, 온도, 습도를 안정적이고 정확하게 제어하여 매번 우수한 결과를 얻을 수 있습니다. 고성능 이미징 플레이트와 다양한 기능을 갖춘 KDI KD-UV02-1707은 포토레시스트 (photoresist) 처리를 쉽고 안정적으로 만들 수 있습니다.