판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9015890

KARL SUSS/MICROTEC RC 8은 매우 복잡한 microelectronic 부품 및 구조를 제조 할 수있는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 스텝 그레이스케일 (SGS) 이미징 기술 (stepped greayscale (SGS) imaging technology) 을 기반으로하며, 이는 빛의 간섭을 사용하여 복잡한 회색 톤 세트로 수지를 노출시키거나 재료에 저항하여 정확한 패턴을 달성합니다. MICROTEC RC 8은 광범위한 포토 esist와 작동하도록 설계되었습니다. 표준 음성 또는 양성 광분극 필름, 액체 제트 및 분배 저항과 함께 사용할 수 있습니다. 또한이 장치는 저온 (low-temperate) 프로세스를 사용하여 저항을 기판에 적용하여 저항의 폴리머 (polymer) 및 접착 특성이 손상되지 않도록 합니다. 이 기계는 직접 쓰기 리소그래피 헤드를 사용하여 300 W/cm2의 감마 조도를 제공하며 공간 해상도는 5발로 낮습니다. KARL SUSS RC 8은 최대 400 x 400mm의 기판 크기를 지원하며 Z축 해상도에서 -3 ~ + 25mm의 작동 범위를 제공합니다. 이미징 프로세스에는 사전 노출, 노출 후, 에칭 및 베이킹의 4 단계가 포함됩니다. 이러한 단계는 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스로 관리됩니다. RC 8은 작동에서 높은 정확도와 속도를 달성 할 수 있습니다. 최대 3000 개의 웨이퍼/시간을 처리할 수 있으며, 최적의 결과를 위해 조도 및 노출 시간을 자동으로 조정합니다. 이 도구는 또한 포토 마스킹 프로세스 (photomasking process) 에서 높은 수율 (yield rate) 을 확보하기 위해 결함을 식별하고 제거합니다. 또한 KARL SUSS/MICROTEC RC 8에는 매우 정확한 노출 제어를 위해 온도 보상 및 빔 형성과 같은 다양한 고급 기능이 있습니다. 에셋은 또한 고급 비접촉 저항을 지원하여 매우 얇은 레이어 저항 응용 프로그램을 지원합니다. MICROTEC RC 8은 복잡한 마이크로 일렉트로닉 제작에 놀라운 결과를 제공하는 포괄적 인 포토 esist 모델입니다. 하이엔드 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 생산에 이상적인 솔루션으로, 혁신적인 디자인과 기능을 통해 안정적인 수율을 보장합니다.