판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293798807

KARL SUSS/MICROTEC Gamma는 microfabrication 및 nanofabrication 프로세스를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 투영 리소그래피 (projection lithography) 기술을 사용하여 패턴을 마스크에서 기판으로 전송합니다. 그것 은 "마이크론 '과" 나노미터' 척도 에서 치수 의 정확도 를 가진 광저항 패턴 을 발전 시키는 데 사용 될 수 있다. 이 장치에는 자외선 (UV) 광원과 조명을위한 광학이 장착되어 있습니다. 여기에는 198 nm 엑시머 레이저, 157 nm 플루오린 레이저 및 가변 수치 조리개 (NA) 세트가 포함됩니다. 또한 g-line (436 nm), i-line (365 nm) 및 deep-UV (248 nm) 방사선 또는 광파 조합을 사용하여 노출 스펙트럼을 넓힐 수 있습니다. 이 기계는 자동 웨이퍼 정렬 장치, 정렬 마커, 정확한 이동 도구, 풀 필드 프로그래밍 가능 강도 변조, 자동 초점 및 자동 새로 고침 기능, 위치 조정 단계 등 고급 노출 및 패턴 지정 기능으로 설계되었습니다. 또한 패턴 화 광사 영역의 노출 변환 (교대) 및 고해상도 이미징을 허용합니다. MICROTEC 감마 (MICROTEC Gamma) 는 표준 벤치 탑 형식으로 제작되었으며, 가열된 회전 디스크가있는 포토 esist 물질의 편리한 습식 처리를 제공합니다. 또한, 자산은 여러 레이어 구조 및 나노 임프린트 (Nanoimprint) 프로세스를 만들기 위해 진공 기반 클린 평면 건조 처리 환경에 쉽게 통합 할 수 있습니다. KARL SUSS 감마 (KARL SUSS Gamma) 는 마이크로 및 나노 기술 분야에서 가장 까다로운 프로젝트에 대한 높은 정확도 패턴화를 위한 처리량과 안정성을 제공하여 최대 몇 마이크로미터 (nanometer) 의 치수를 가진 피쳐를 개발할 수 있습니다. 이를 통해 제조 된 부품이 정확하고 MEMS, 센서, 광전자 장치, 생의학 장치 등 다양한 기술에 적합한 속성을 갖습니다. 또한, 이 모델에는 진공실에 폐기물 수집 장비, 네트워크 연결, 보호 유리 창이 있습니다. 마지막으로, 강력한 사용자 친화적 소프트웨어인 Suss MICROTEC Premiere (TM) 를 통해 사용자는 마스크를 빠르고 쉽게 만들고, 데이터를 가져오고, 각 노출에 대한 세부 정보를 자동으로 기록할 수 있습니다.