판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293778062

KARL SUSS/MICROTEC Gamma는 마이크로 전기 및 광학 부품의 제조에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 에칭 (etching) 과정에서 높은 정확성과 반복성을 제공하면서 여러 가지 포토리스 (photoresist) 유형과 프로세스를 동시에 처리하도록 설계되었습니다. "MICROTEC Gamma는 일체형 DL-2Y 포토 esist 시스템으로, 매우 투명하고 화학적으로 내성 있는 DL-2Y 포토 esist를 결합하여 석판화 및 드라이 에칭을위한 마스크로 일반적으로 사용됩니다. DL-2Y 포토 esist는 폴리머 기반이므로 광학 및 x- 선 마이크로 리토 그래피 모두에 사용할 수 있습니다. KARL SUSS Gamma 유닛은 포토 esist 코팅 및 개발을위한 자동 솔루션을 제공합니다. 이렇게 하면 수동 응용 프로그램 (manual application) 이 필요 없게 되고 포토레지스트 레이어 두께를 훨씬 더 많이 제어할 수 있습니다. 이 기계는 고급 하드웨어 인터페이스를 포함하는 캔틸레버 (cantilevered) 자동 웨이퍼 로더 (automatic wafer loader) 를 제공하여 재료 분배 및 포토레시스트 프리 베이크 매개변수를 유연하게 제어 할 수 있습니다. 내장 스캔헤드는 최대 + 0.1 um 의 정확도로 정렬 정확도를 향상시키도록 설계되었습니다. 또한 [감마] 도구는 이미지 시각화의 정확성을 높이기 위해 고해상도 디지털 이미징 자산을 제공합니다. KARL SUSS/MICROTEC Gamma는 2 단계 난방 및 냉각 모델을 사용하여 이상적인 포토 esist 치료 및 개발을 달성합니다. 또한 에칭 중 포토 esist 마스크를 정확하게 배치하기 위해 통합 리프트 핀이 특징입니다. 이중 밀도 PTFE 코팅 컨베이어를 사용하면 챔버에서 웨이퍼를 쉽게 로드 및 언로드할 수 있습니다. MICROTEC 감마 (MICROTEC Gamma) 는 직경, 코팅 두께 및 필름 재료에 대한 다양한 옵션을 제공하여 특수 작업에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 마지막으로, KARL SUSS Gamma 장비는 결함을 쉽게 감지하고 검사하기 위해 고급 백라이트 시청 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스로 설계되었으며, 사용자 친화적입니다. 감마 광전자 장치 (Gamma photoresist unit) 를 사용하여 연산자는 광전자 크래킹, 에지 롤 오프 및 임계 치수 손실을 최소화하여 품질 마이크로 일렉트로닉 및 광학 구성 요소를 만들 수 있습니다.