판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293617131

KARL SUSS/MICROTEC Gamma는 다양한 유형의 마이크로 구조의 고해상도와 정확한 패턴을 생성 할 수있는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 전자 회로, MEMS 및 광전자 부품 제조 등 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 시스템은 마스크 정렬기, 소형 프로세서 및 플라즈마 활성화 (plasma-activated) 습식 에칭 모듈로 구성됩니다. 마스크 정렬자 (mask aligner) 는 포토 마스크 (photomask) 를 보유하며 스테퍼 플랫폼에서 포토리토그래픽 패턴 처리 (photolithographic patterning process) 를 수행하고 기판 위에서 마스크를 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 소형 프로세서는 포토 마스크 (photomask) 로부터 패턴 데이터를 받아 처리하여 기판에 포토레지스트 (photoresist) 패턴을 생성합니다. 플라즈마 활성화 된 습식 에칭 모듈은 기판의 노출 된 영역을 에치 (etch) 하고 제거하는 데 사용됩니다. MICROTEC 감마 (Gamma) 장치는 노출 용량, 조명 패턴 및 노출 시간과 같은 프로세스 매개변수의 사용자 제어를 제공합니다. 이렇게 하면 프로세스 변수를 최적화하여 고해상도 (high resolution) 와 정확한 패턴 라인 및 피쳐를 생성할 수 있습니다. 이 기계는 고정밀 렌즈, 매우 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface), 소프트웨어 (software) 등을 갖추고 있어 패턴을 설계하고 매개변수를 조정할 수 있습니다. KARL SUSS 감마 (Karl SUSS Gamma) 도구는 인쇄 회로 기판, MEMS 및 광전자 부품의 제작과 같은 응용 분야에 적합한 다양한 기능을 제공합니다. 제조 공정 (Manufacturing Process) 과 관련된 시간과 비용을 절감하는 데 매우 정확한 패턴 생성 및 정렬 프로세스 (Pattern Generation and Alignment Process) 를 제공합니다. 감마 (Gamma) 자산은 안정적이고 작동이 용이하도록 설계되어 있어 고품질 마이크로 패턴 (micro-pattern) 을 빠르고 쉽게 만들 수 있습니다. 다양한 온도, 습도 (temperature and humidity) 조건에서 사용할 수 있으며, 다양한 도구와 함께 사용 가능하여 시기적절하고 경제적인 방식으로 복잡한 패턴을 개발할 수 있습니다. 이 모델은 다양한 기판에 복잡한 마이크로 패턴 (micro-pattern) 을 만드는 데 이상적이며, 제조 응용 분야에 적합합니다.