판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Gamma 60 #293828179

KARL SUSS/MICROTEC Gamma 60 photoresist 장비는 표준 반도체 공정 라인과 상호 작용하며 미크론 수준의 정확도와 해상도로 복잡한 미세 구조를 생산할 수 있습니다. 이 시스템은 컴팩트하고 모듈식 (modular) 설계를 갖추고 있으며 세계에서 가장 발전된 전자 빔 (electron beam) 패턴화와 처리 기술 저항을 통합합니다. 따라서 패턴 품질 (Pattern Quality) 과 중요한 피쳐 제어 (Critical Feature Control) 를 통해 가장 균일하고 가장 정확한 오버레이 정렬을 달성할 수 있습니다. 마이크로 텍 감마 60 (MICROTEC Gamma 60) 은 넓은 영역 단계를 사용하여 넓은 지역 노출 필드를 제공하여 대형 칩 생산에 이상적입니다. 또한, 통합 설계를 통해 장치의 완벽한 원격 작동이 가능하며, 최대 운영자 (Operator) 의 안전을 보장합니다. 이 기계는 칩 패턴화 (chip patterning) 에 적합한 해상도를 제공하며, 노출 시간을 단축하기 위해 고속 빔 블랭커를 갖추고 있습니다. 또한, 초점 정확도 및 현장 심도 보정 (in-field depth correction) 기능을 제공하여 원하는 깊이를 가진 여러 레이어를 제조할 수 있습니다. KARL SUSS Gamma 60은 고대비 프로그래머를 사용하여 가장 정확한 기능 해상도와 CD (Critical Dimension) 제어를 보장합니다. 또한 피폭량 (exposure dose), 초점 (focus) 등 다양한 프로세스 매개변수를 원격으로 조정하여 쉽고 안정적인 프로세스 최적화 기능을 제공합니다. 이 도구에는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 가 있어 전자 빔을 안내하고 프로세스 매개변수를 제어하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 감마 60 (Gamma 60) 에는 실시간 결함 감지를 위해 웨이퍼를 직접 시각적으로 검사하는 고급 광학 자산도 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC Gamma 60은 엄청나게 안정적이고 재생 가능한 이미지를 생성하여 반복적인 생산 환경에 이상적입니다. 더욱이, 이 모델은 포괄적인 문서와 기술 지원이 지원되므로, 최상의 성능과 안정성을 보장합니다.