판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293831196

KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M은 정확하고 정확한 포토 리토 그래피 프로세스를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템을 사용하면 미크론 및 서브 미크론 해상도 레벨로 표면을 패턴화할 수 있습니다. MICROTEC 감마 4M (Microtec Gamma 4M) 은 자동 6 축 컴퓨터 제어 단계를 특징으로하며, 조각의 추가/제작 광학과 관련하여 기판을 정확하게 배치 할 수 있습니다. 이 장치에는 UV 조명기도 포함되어 있으며 균일 한 광도를 사용합니다. 미리 정의된 매개변수에 기반한이 광원 노출은 기판에서 필요한 패턴을 에치합니다. KARL SUSS Gamma 4M에는 자동 근접 및 초점 감지 도구가 포함되어 있습니다. 이 자산은 기판이 패턴 광학 (patterning optics) 과 관련하여 항상 최적의 위치에 있으므로 사진 (photolithography) 프로세스에 대한 최고 정도의 정확도를 보장합니다. 또한 감마 4M (Gamma 4M) 에는 온도 보호 모델이 내장되어 있어 전체 기판에서 적절한 작동 온도를 유지할 수 있습니다. 정확한 표면 패턴 지정 기능으로 인해 KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M은 웨이퍼 조작, 마스킹 및 직접 쓰기 리소그래피 개발과 같은 응용 프로그램에 이상적인 도구입니다. 이 장비는 실리콘 웨이퍼, 쿼츠, 세라믹, 사파이어 등 다양한 하드 기판과 호환됩니다. MICROTEC Gamma 4M (MICROTEC Gamma 4M) 을 사용하면 복잡한 패턴을 곡선, 플랫 또는 접힌 샘플에 적용할 수 있으므로 원하는 설계를 적용할 때 높은 유연성을 얻을 수 있습니다. 다양한 기능을 고려할 때, KARL SUSS Gamma 4M은 다양한 어플리케이션의 요구를 충족시키기 위해 다양한 기능을 제공합니다. PMMA, polyimide, SU-8 및 photoresist와 같은 다양한 재료와 호환됩니다. 감마 4M (Gamma 4M) 은 레이저 노출 시스템, 자동 정렬, 자동 초점 감지 및 수정 장치 (Automated Focus Detection and Correction Unit) 의 통합으로 인해 매우 정확하고 효율적인 사진 분석 도구이기도합니다. 전반적으로 KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M은 정밀 사진 석판 촬영 프로세스를 용이하게하도록 설계된 뛰어난 포토 esist 기계입니다. 다양한 모양과 크기의 하드 기판 (hard 기판) 에 다양한 패턴을 제작할 수 있으며, 많은 응용 프로그램에 유연성과 정확성을 제공합니다. 자동 위치 지정 (Automated Positioning) 및 열 보호 시스템 (Thermal Protection Systems) 은 사용자의 작업 조건을 최적화하는 반면, 레이저 노출 도구, 자동 초점 감지 및 수정 자산 (Automated Focus Detection and Correction Asset) 은 Photolithography 프로세스에 대한 탁월한 정확성과 해상도를 보장합니다.