판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC Delta 80 #9271444

KARL SUSS/MICROTEC Delta 80 Photoresist Equipment는 주로 반도체 장치 제조에 사용되는 리소그래피 기계입니다. 자외선을 사용하여 웨이퍼 표면에 패턴을 생성합니다. MICROTEC 델타 80 (Delta 80) 은 웨이퍼에 이미지를 정밀하게 정렬하여 매우 정확한 광학 시스템을 갖추고 있습니다. 컴퓨터 컨트롤러 마이크로 컨트롤러 (Micro-Controllcenter) 는 전체 석판화 과정에서 노출 용량, 기판 온도, 냉각 속도 등의 매개변수에 대한 고급 제어를 허용합니다. KARL SUSS Delta 80에는 UV/가시 광원, 조명 장치 및 여러 마스크를 운반하기위한 마스크 테이블이 장착되어 있습니다. 패턴을 포함하는 마스크 (mask) 는 진공 밀봉 환경에서 웨이퍼 위에 보관됩니다. 광원은 마스크 패턴을 UV 광원에 노출 한 다음 웨이퍼 (wafer) 에 새깁니다. 조명기 는 "웨이퍼 '에" 패턴' 을 정확 하게 각인 하는 데 필요 한 광도 와 파장 을 만들어 낸다. Delta 80 Photoresist Tool은 매우 효율적이며, 노출 속도는 시간당 최대 30 웨이퍼입니다. 또한, 자동 온도 조절 (automated temperature control) 을 통해 와퍼가 프로세스 전체에서 일관된 온도로 유지되도록 합니다. KARL SUSS/MICROTEC Delta 80은 또한 프로세스 동안 각 웨이퍼의 노출 용량을 정확하게 모니터링하고 조정 할 수 있습니다. 이를 통해 모든 웨이퍼는 동일한 수준의 노출을받습니다. Photoresist Asset에는 고급 이미징 모델도 장착되어 있습니다. 이 장비 는 기계 가 "웨이퍼 '의 기본 표면 의 변화 를 탐지, 식별, 조정 할 수 있게 해 준다. "이미징 '" 시스템' 은 또한 "웨이퍼 '의 불완전성 과 결함 을 특징 짓고, 그러한 효과 를 최소화 하기 위하여 노출 과정 을 조정 하는 데 사용 될 수 있다. MICROTEC Delta 80 Photoresist 시스템에는 고급 저항성 화학 물질도 장착되어 있습니다. 이러한 화학 물질은 응용 프로그램에 맞게 맞춤 조정할 수 있으며, 이는 성능, 효율성 및 정확성을 향상시킵니다. 또한, 이 장치에는 통합 운송 기계 (integrated transport machine) 와 현미경 (microscope) 이 있습니다. 전반적으로 KARL SUSS Delta 80 Photoresist Tool은 반도체 장치 제조에 사용되는 안정적이고 효율적인 기계입니다. 매우 정확한 이미징 자산, 고급 저항성 화학 물질 (Advanced Resist Chemistry) 및 자동 온도 조절 (Automated Temperature Control) 기능을 통해 일관되고 정확한 노출이 보장됩니다. 이러한 기능은 반도체 장치 제조에 이상적인 선택입니다.